亚半微米

作品数：11被引量：14H指数：2
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亚半微米铬掩模版制作技术研究
《微纳电子技术》2002年第2期43-45,共3页王维军 罗四维 江泽流 刘玉贵 
介绍了用LeicaVB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4英寸铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术。
关键词：电子束制版 亚半微米 混合制版 PMMA电子束抗蚀剂 干法刻蚀 掩模版 
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