亚半微米

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相关作者：陈旭南姚汉民罗先刚张津江泽流更多>>
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提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅱ)
《物理》1998年第5期278-281,300,共5页罗先刚 陈旭南 姚汉民 
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅱ）罗先刚陈旭南姚汉民（中国科学院光电技术研究所，成都６１０２０９）４相移掩模技术［５］相移掩模（ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｍａｓｋ，ＰＳＭ）最初由美国的Ｍ．Ｄ．Ｌｅｖｅｎｓｏｎ于１...
关键词：光刻 分辨力 亚半微米图形 相移掩模 
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅰ)
《物理》1998年第4期219-222,共4页罗先刚 陈旭南 姚汉民 
介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述...
关键词：分辨力 焦深 大数值孔径 短波长 光刻 亚半微米 
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