SU-8

作品数：107被引量：206H指数：7
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相关机构：上海交通大学中国科学院大连理工大学吉林大学更多>>
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SU-8光栅的制备及其衍射性能研究
《传感器与微系统》2025年第1期55-58,共4页鲁小鑫 王萧 张雪凤 王浪 岱钦 乌日娜 
2022年辽宁省“揭榜挂帅”科技计划重点项目;沈阳理工大学光选科研团队建设项目;辽宁省博士科研启动基金计划资助项目(2021-BS-161)。
衍射效率的大小是衡量光刻光栅性能优劣的重要指标。使用严格耦合波分析(RCWA)模拟得到周期10μm和12μm的SU-8微米光栅的各级次衍射效率。采用掩模版紫外光刻技术制作曝光时间分别为27,30,33,36 s的SU-8光栅。通过显微镜观察,发现曝光...
关键词：SU-8光刻胶 衍射效率 严格耦合波分析 
SU-8微小网孔阵列结构的形貌优化工艺研究被引量：1
《传感器与微系统》2021年第3期12-15,共4页李令英 张慧 陈超 吴其鑫 钱波 
上海新型烟草制品研究院有限公司研究项目(E041190101);国家自然科学基金面上资助项目(61575216);广东省重点领域研发计划资助项目(2018B090905002);江苏省重点研发计划竞争项目(BE2017081)。
研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利于液体喷射。为了实现陡直的图形结构,深入研究了衬底和紫外曝光焦平面的相对位置(散焦量),对于SU-8光刻...
关键词：SU-8光刻胶 光刻 微机电系统(MEMS) 小液滴 雾化 
基于SU-8的微流沟道的设计和制作被引量：1
《传感器与微系统》2012年第10期94-96,共3页李向红 张斌珍 孟祥娇 范新磊 
国家自然科学基金面上项目(61176115)
以SU—8作为结构材料,采用紫外光刻工艺,尤以斜曝光工艺为主,制造一种新型的、小型化的、低成本的、三维的、高深宽比的微流沟道,微流沟道的高度约为1100μm。初步确定出加工此微流沟道结构所需要的曝光计量、前烘时间、后烘时间和显影...
关键词：微流沟道 SU—8 光刻工艺 斜曝光 三维 高深宽比 
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