周小为

作品数：5被引量：19H指数：3
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供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
发文主题：离子束刻蚀衍射光学元件大尺寸衍射效率刻蚀深度更多>>
发文领域：理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>
发文期刊：《物理学报》《光学精密工程》《真空》《中国科学技术大学学报》更多>>
所获基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家科技重大专项中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
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大口径多层介质膜光栅衍射效率测量及其在制作工艺中的应用被引量：1
《物理学报》2012年第17期252-260,共9页周小为 刘颖 徐向东 邱克强 刘正坤 洪义麟 付绍军 
国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA1416);国家自然科学基金(批准号:10875128)资助的课题~~
多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求,在大口径多层介质膜光栅的研制过程中,建立了单波长自准直条件下的衍射效率测量方法及其误差分析.结果表明误差主要由探测器的噪声和测试人员的差异产...
关键词：衍射效率 多层介质膜光栅 离子束刻蚀 
大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀被引量：7
《光学精密工程》2012年第8期1676-1683,共8页邱克强 周小为 刘颖 徐向东 刘正坤 盛斌 洪义麟 付绍军 
国家863-804项目;国家重大专项;国家自然科学基金资助项目(No.10676032;No.10875128;No.10975135;No.10975139)
总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针对多...
关键词：衍射光学元件 离子束刻蚀 刻蚀深度 在线检测 多层介质膜光栅 
相位片角向衍射产生拉盖尔-高斯光束的实验研究被引量：5
《物理学报》2010年第6期3930-3935,共6页任煜轩 吴建光 周小为 付绍军 孙晴 王自强 李银妹 
国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA021811;2007AA021809);中国科学院知识创新工程重要方向性项目(批准号:KJCX2-YW-H-10);中国科学技术大学研究生创新研究基金资助的课题~~
设计了一种角向分布的相位片,利用离子束刻蚀技术加工成0和π二级的相位片.利用角向衍射理论对相位片的衍射场分析表明,衍射场为拓扑指数相反的两束拉盖尔-高斯光束的叠加场.用直径为4mm的近平行光照射相位片,获得径向指数为零,拓扑荷...
关键词：信息光学 拉盖尔-高斯光束 相位片 离子束刻蚀 
用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制被引量：4
《真空》2008年第3期25-27,共3页洪义麟 刘良保 周小为 徐向东 付绍军 
国家高技术863技术资助
在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450 mm×450 mm(Ф650 mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放电来达到去残胶的目的,辉光放电速率可通过调节...
关键词：大尺寸 衍射光栅 辉光放电 灰化 
几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究被引量：3
《中国科学技术大学学报》2007年第4期536-538,553,共4页刘颖 徐德权 徐向东 周小为 洪义麟 付绍军 
中国高技术研究发展(863)计划(863-804)资助
利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实验结果...
关键词：离子束刻蚀 射频离子源 选择比 衍射光学元件 
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