宗明成

作品数：10被引量：30H指数：4
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发文领域：机械工程自动化与计算机技术理学电子电信更多>>
发文期刊：《计算机与数字工程》《光学学报》《激光与光电子学进展》《仪表技术与传感器》更多>>
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光刻调焦调平测量技术的研究进展被引量：2
《激光与光电子学进展》2022年第9期258-269,共12页齐月静 裴雨多 宗明成 李璟 陈进新 
国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
光刻机利用调焦调平测量系统实现对硅片形貌的精密测量,是实现高质量曝光的关键。基于光学三角法实现硅片形貌测量的调焦调平测量技术是目前主流光刻机厂商普遍采用的技术。首先,介绍了光学三角法的测量原理和系统组成。然后,以实现高...
关键词：光学设计 光刻 调焦调平 形貌测量 工艺适应能力 极紫外光刻 
调焦调平传感器增益系数工艺相关性研究被引量：4
《光学学报》2022年第4期101-108,共8页孙生生 王丹 宗明成 
国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
针对先进光刻调焦调平传感器系统的增益系数工艺相关性开展理论仿真与实验研究。建立了增益系数工艺相关性理论模型,仿真分析了调焦调平传感器增益系数与测量误差随不同光刻工艺材料膜层厚度的变化规律。在自研实验系统上对表面涂覆不...
关键词：测量 调焦调平传感器 增益系数 工艺相关性 对焦控制 
光刻调焦调平测量系统算法比较研究被引量：1
《计算机与数字工程》2021年第3期427-432,438,共7页范伟 李世光 武志鹏 段晨 宗明成 
国家科技重大专项项目(编号:2017ZX02101006-003)资助。
调焦调平测量系统是光刻机对焦控制的核心部件,调焦调平测量系统的数据处理精度影响光刻机的对焦控制性能,计算速度影响光刻机产能。论文通过仿真与实验对比分析了多项式拟合算法(polynomial fitting)、RF(random forest)算法和XGBoost(...
关键词：光刻 调焦调平 精度 拟合算法 
纳米光刻调焦调平传感器光电探测系统设计被引量：4
《仪表技术与传感器》2020年第12期6-9,15,共5页龚士彬 谢冬冬 武志鹏 宗明成 
国家科技重大专项(2017ZX02101006-003)。
针对光刻机调焦调平传感器的高实时性数据采集的设计需求,设计了一种多通道同步采集的光电探测系统。该系统使用FPGA作为数据处理和逻辑控制核心,实现了21个通道测量数据的实时采集和高速传输,与硅片台位置同步以保证测量数据与被测位...
关键词：光刻机 调焦调平 探测系统 同步性 实时数据采集 多通道 
用于光刻调焦调平的反射式投影光学系统设计被引量：4
《光学学报》2020年第15期135-141,共7页孙生生 王丹 齐月静 宗明成 
国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
调焦调平传感器是光刻机关键分系统之一,用于曝光前对硅片高度形貌进行测量。投影光学系统是调焦调平传感器的核心,其成像质量直接影响传感器测量精度。根据调焦调平传感器的测量原理与像差理论,分析得到投影光学系统放大倍率、畸变、...
关键词：光学设计 调焦调平 反射式 投影光学 
电子束硅片图形检测系统中的纳米级对焦控制技术被引量：3
《中国光学》2019年第2期242-255,共14页郭杰 李世光 赵焱 宗明成 
极大规模集成电路制造装备及成套工艺(国家02专项)资助项目(No.2012ZX02701004)~~
带电粒子束成像检测技术是一种可以提供纳米级测量精度的技术,广泛应用于半导体检测中。在进行硅片检测时,要求待测硅片在扫描检测过程中一直处于电子束的焦深范围(DoF)内。本文提出一种毫米级控制范围、纳米级控制精度、高度测量时间...
关键词：对焦控制 高度测量 高度控制 带电粒子束检测 电子束检测 光学游标卡尺 焦深 
浸没式光刻机对焦控制技术研究被引量：5
《光学学报》2018年第9期187-192,共6页段晨 宗明成 范伟 孟璐璐 
国家科技重大专项(2017ZX02101006-003)
随着大规模集成电路芯片制造步入十几纳米技术节点时代,光刻机的对焦控制变得越来越困难,其精度需要达到几十纳米。基于实际的光刻机对焦控制系统架构和光刻对焦原理,开展了浸没光刻对焦控制统计分析方法研究。根据系统结构分析出一系...
关键词：光学设计 浸没光刻 对焦控制 误差 集成电路 
基于SEM图像的自动对焦技术
《微纳电子技术》2017年第8期547-552,共6页韩邦强 宗明成 
国家科技重大专项资助项目(2012ZX02701004)
针对扫描电子显微镜(SEM)自动对焦技术对噪声敏感,计算量大,从而影响SEM自动对焦的准确性和实时性,提出一种基于SEM图像的自动对焦技术。该技术采用基于拉普拉斯高斯算子和局部方差相结合的对焦评价函数FGLOG描述SEM的对焦状态;采用显...
关键词：自动对焦 评价函数 扫描电子显微镜(SEM) 感兴趣区域(ROI) 显著区 
纳米光刻中调焦调平测量系统的工艺相关性被引量：10
《光学学报》2016年第8期102-112,共11页孙裕文 李世光 叶甜春 宗明成 
国家科技重大专项(2012ZX02701004)
随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路（IC）工艺显著影响调焦调平系统的测量精度。基于实际的调焦调平光学系统模型和三角法、叠栅条纹法测量原理,建立工...
关键词：测量 调焦调平 工艺相关性 纳米光刻 
基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术被引量：13
《光学学报》2016年第5期97-104,共8页孙裕文 李世光 宗明成 
国家科技重大专项(2012ZX02701004)
随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,调焦调平系统的测量精度达到几十纳米。在纳米尺度范围内,集成电路(IC)工艺对调焦调平测量精度的影响很大。提出一种基于光学三角法和叠栅条纹法的调焦调平测量技术,利用空间分光系统将两组位相差...
关键词：测量 调焦调平 空间分光 硅片高度 集成电路工艺 
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