尹睿

作品数：2被引量：3H指数：1
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供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文主题：CMP技术插塞钨碱性化学机械全局平面化更多>>
发文领域：电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>
发文期刊：《半导体技术》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：河北省自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
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ULSI中低k介质的化学机械全局平坦化分析研究被引量：1
《微纳电子技术》2006年第3期154-158,共5页尹睿 刘玉岭 李薇薇 张建新 
天津市重点自然科学基金(043801211);微电子学与固体电子学:河北省重点学科
针对常见的低k介质材料分析了其化学机械全局平坦化的机理,并进一步探讨了低k介质化学机械抛光中包括压力、磨料、pH值和温度在内的几个因素对于抛光速率和表面状态等方面的影响。
关键词：全局平坦化 化学机械抛光 低K介质 机理 抛光液 
IC制备中钨插塞CMP技术的研究被引量：2
《半导体技术》2006年第1期26-28,22,共4页李薇薇 周建伟 尹睿 刘玉岭 
河北省自然基金资助项目(599041)
对目前超大规模集成电路钨插塞化学机械全局平面化(CMP)的原理及工艺进行了分析,对钨抛光浆料的组成成分进行了研究,开发了一种能够适合工业生产的钨的碱性抛光浆料,并对钨抛光浆料今后的发展进行了展望。
关键词：钨 化学机械全局平面化 抛光浆料 碱性 
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