李薇薇

作品数：26被引量：81H指数：5
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供职机构：河北工业大学信息工程学院更多>>
发文主题：CMPULSI超大规模集成电路化学机械抛光化学机械全局平面化更多>>
发文领域：电子电信金属学及工艺文化科学一般工业技术更多>>
发文期刊：《微电子学》《微细加工技术》《清洗世界》《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金：河北省自然科学基金天津市重大科技攻关项目国家自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
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以成果为导向的信号处理软件课程教学改革浅析
《科技风》2021年第6期73-74,共2页姜霞 卢嘉 李薇薇 
河北工业大学2019年教改立项,“项目驱动式混合教学模式在软件课群中的研究与实践”。
从本校信息工程学院专业课教学特点出发,以成果为导向,针对课堂教学和实验教学内容进行改革实践。讨论了在授课时引入"案例教学法",把MATLAB的相关知识点和实际相关问题结合,使学生在学习软件语言的同时,掌握如何用软件解决实际问题,培...
关键词：MATLAB 案例教学 实验教学 成果导向 
培养大学生创造力的教学方法探讨被引量：2
《高教学刊》2020年第1期110-112,共3页李薇薇 郭艳菊 
2017年度河北省示范性虚拟仿真实验教学项目“集成电路制造虚拟仿真教学”(编号:220094-003)。
培养大学生的创造力是高等教育的一个关键,从教学方法的角度首先应该引导学生建立系统的知识体系,学会如何去学习;其次要利用形象化的手段,将抽象的知识用循序渐进的方法让学生理解和接受,还可以采用立体网状的问题结构,来激发学生的创...
关键词：知识体系 立体网状 创新思维 隐性知识 
去除存储器硬盘基片CMP后表面污染物的新方法
《表面技术》2010年第3期82-84,共3页李薇薇 
天津市重大科技攻关项目(013180311)
提出了硬盘在化学机械全局平整化加工(CMP)过程中污染物颗粒吸附在表面的机理,通过分析清洗中的润湿作用、分散作用、渗透作用和螯合作用,确定了清洗剂的主要成分,分析了聚醚类活性剂的特点,确定了清洗剂中各成分的最佳配比。采用该方...
关键词：硬盘 聚醚类活性剂 CMP 污染物 清洗 
材料表面化学机械超精密加工纳米浆料与技术
《天津科技》2007年第4期26-27,共2页刘玉岭 檀柏梅 李薇薇 周建伟 王胜利 张西慧 
对材料表面加工精度要求最高的超大规模集成电路(ULSI)多层铜布线全局平整化的化学机械超精密加工(CMP)机理与浆料及关键技术等急待解决的问题进行研究,获得了多项突破,应用后取得了显著效果,指出该项技术将有广阔的发展前景。
关键词：化学机械超精密加工 CMP 浆料 材料表面 
LCD残留液晶的清洗被引量：4
《清洗世界》2006年第9期24-28,共5页李广福 刘玉岭 李薇薇 
天津市重点自然科学基金(043801211)
指出了去除残留液晶在LCD制造过程中的重要性,并为了适应目前ODS的替代趋势介绍了LCD行业中目前广泛采用的替代ODS的清洗剂和清洗工艺。其中详细介绍了各种替代清洗剂的组成及其优缺点,并对清洗机理进行了一定的分析最终给出了一般的工...
关键词：LCD ODS 清洗剂 清洗工艺 
集成电路多层铜布线阻挡层CMP技术与材料被引量：2
《半导体技术》2006年第5期334-336,345,共4页李薇薇 檀柏梅 周建伟 刘玉岭 
国家自然科学基金资助项目(60176033);河北省自然科学基金资助项目(502029)
以化学机械全局平面化(CMP)动力学过程和机理为基础,在抛光浆料中采用粒径为1 5～20nm的硅溶胶作为CMP磨料,保证了高的抛光速率(200nm/min),同时可有效降低表面粗糙度,减少损伤层的厚度。
关键词：超大规模集成电路 阻挡层 钽 化学机械抛光 抛光浆料 
ULSI中低k介质的化学机械全局平坦化分析研究被引量：1
《微纳电子技术》2006年第3期154-158,共5页尹睿 刘玉岭 李薇薇 张建新 
天津市重点自然科学基金(043801211);微电子学与固体电子学:河北省重点学科
针对常见的低k介质材料分析了其化学机械全局平坦化的机理,并进一步探讨了低k介质化学机械抛光中包括压力、磨料、pH值和温度在内的几个因素对于抛光速率和表面状态等方面的影响。
关键词：全局平坦化 化学机械抛光 低K介质 机理 抛光液 
一种有效去除CMP后表面吸附杂质的新方法被引量：5
《半导体技术》2006年第3期186-188,共3页李薇薇 檀柏梅 周建伟 刘玉岭 
河北省自然基金资助项目(599041)
CMP后大量颗粒吸附在芯片表面,根据颗粒在芯片表面的吸附状态,确立优先吸附模型。利用特选的表面活性剂优先吸附在芯片表面可以有效控制杂质的吸附状态,使之处于易于清洗的物理吸附。实验表明,特选的非离子界面活性剂能够有效去除CMP后...
关键词：化学机械全局平面化 吸附 活性剂 颗粒 清洗 
新型兆声清洗去除集成电路衬底硅片表面污染物的分析研究被引量：1
《电子器件》2006年第1期124-126,133,共4页李薇薇 周建伟 刘玉岭 王娟 
天津市重点基金项目资助(043801211)
集成电路衬底硅片表面存在污染物会严重影响器件可靠性,非离子表面活性剂能有效控制颗粒在硅单晶片表面的吸附状态,使之保持易清洗的物理吸附。在清洗液中加入特选的非离子表面活性剂,大大提高了兆声清洗去除颗粒的效率和效果。实验表...
关键词：兆声清洗 非离子表面活性剂 颗粒 吸附 
蓝宝石衬底片的精密加工被引量：12
《微电子学》2006年第1期46-48,共3页王娟 刘玉岭 檀柏梅 李薇薇 周建伟 
天津市重大攻关项目资助(043801211)
对SiO2磨料抛光蓝宝石衬底片进行了研究。结果表明,采用大粒径、高浓度的SiO2磨料抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。抛光的适宜温度及pH值条件为:T=30℃;12.0>pH值≥9.0。并且,在抛光时应加入适量添加剂,方可获得较为理想...
关键词：蓝宝石 化学机械抛光 硅溶胶 SiO2磨料 
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