王建超

作品数：4被引量：6H指数：2
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供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文主题：CMP化学机械抛光去除速率蓝宝石衬底PH调节剂更多>>
发文领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《半导体技术》《河北工业大学学报》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：河北省自然科学基金国家科技重大专项天津市自然科学基金国家级大学生创新创业训练计划更多>>
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光学石英玻璃CMP抛光液的研究
《微纳电子技术》2016年第8期552-557,共6页牛新环 王建超 赵欣 腰彩红 
国家02重大专项(2016ZX02301003-004-007);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247;F2015202267);天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
针对光学石英玻璃在表面化学机械抛光(CMP)过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,提出了采用低抛光压力和低磨料体积分数的CMP方法。机械作用是引起表面及亚表面损伤的关键因素,低抛光压力可以有效降低抛光过程中施于晶体表面...
关键词：石英玻璃 化学机械抛光(CMP) 表面缺陷 去除速率 表面粗糙度 
pH调节剂对蓝宝石衬底CMP的影响被引量：4
《半导体技术》2016年第8期615-619,共5页王建超 牛新环 李睿琦 赵欣 
国家科技重大专项资助项目(2016ZX02301003-004-007);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247;F2015202267)
化学机械抛光(CMP)是固体物质表面超精密加工的重要方法,抛光液的p H值是影响蓝宝石衬底CMP过程中化学反应快慢及材料去除速率和表面粗糙度的重要因素之一。重点研究了不同p H调节剂对蓝宝石衬底去除速率以及表面状态的影响。实验中分...
关键词：蓝宝石 化学机械抛光(CMP) 去除速率 p H调节剂 混合碱 
蓝宝石衬底CMP中温度控制对速率的影响被引量：2
《河北工业大学学报》2015年第5期19-22,共4页牛新环 黄雅欢 王嘉欣 王建超 
河北省自然科学基金(E2013202247);国家级大学生创新创业训练计划项目(201310080022)
化学机械抛光(CMP)是固体物质表面超精密加工最重要的方法之一,温度是影响CMP过程中化学反应快慢及材料去除速率的重要因素之一.本文重点研究了蓝宝石衬底CMP过程中抛光前期温度上升时间对最终抛光效果的影响,并采用原子力显微镜观察表...
关键词：蓝宝石衬底 化学机械抛光 温度控制 去除速率 
基于PSO算法的CMOS运算放大器优化设计
《河北工业大学学报》2008年第4期60-65,共6页高金雍 王建超 夏克文 杨瑞霞 
天津市自然科学基金重点项目(07JCZDJC06100)
针对CMOS运算放大器设计中缺乏自动设计工具,采用手工设计很难提高电路性能的问题,基于群智能技术提出了一种改进的粒子群优化算法(PSO)来进行全局优化求解.主要将CMOS运算放大器的电路性能解析方程转化成粒子位置的求解,先初始化粒子...
关键词：CMOS运算放大器 电路性能解析方程 PSO算法 优化设计 
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