胡敏达

作品数：2被引量：7H指数：2
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供职机构：西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜技术与光电检测重点实验室更多>>
发文主题：等离子体加工超光滑表面光学元件等离子体源表面粗糙度更多>>
发文领域：金属学及工艺化学工程更多>>
发文期刊：《表面技术》《真空科学与技术学报》更多>>
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等离子体加工光学元件工艺研究被引量：4
《表面技术》2008年第1期51-53,共3页王颖男 杭凌侠 胡敏达 
为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研...
关键词：超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率 
等离子体加工光学元件装置技术研究被引量：3
《真空科学与技术学报》2007年第z1期38-40,共3页胡敏达 杭凌侠 刘卫国 徐均琪 梁海峰 
介绍了一种新型的超光滑表面加工技术-等离子体抛光.设计和安装了一套等离子体加工试验平台.加工试验平台由真空系统、等离子体源、射频电源系统、气路系统组成.试验平台具有独立变量:气体流量、真空度、射频电源发射功率和反射功率和...
关键词：超光滑表面 等离子体抛光 加工平台 等离子体源 
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