陈波

作品数：3被引量：1H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文主题：CMPCMP设备大盘温度水压更多>>
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CMP大盘结构研究被引量：1
《电子工业专用设备》2013年第2期33-37,共5页陈波 徐存良 
国家02重大专项(项目编号:2009ZX02011-005A)
在CMP设备中,大盘的整体性能直接影响抛光后晶圆的表面质量和整体面型精度。分析了三种大盘的受力结构,选择应用交叉圆锥滚子轴承的结构为最优。给出了抛光大盘的陶瓷台面的温度控制水道的三个分布模式。
关键词：表面跳动 水压 温度 轴向跳动 
300mm硅片CMP设备装载技术研究
《电子工业专用设备》2011年第11期1-3,7,共4页高文泉 陈威 陈波 柳滨 
国家02重大号项(项目编号:2009ZX02011-005A)
定位装载机构是硅片化学机械抛光(CMP)设备的一个重要组成部分。本文通过对目前CMP设备中硅片定位装载机构的介绍、分析与比较,介绍了一种新型定位装载机构的功能、结构原理及控制原理,并最终通过在工艺试验中的实际应用确定了该机构已...
关键词：定位装载机构 化学机械抛光 CMP 控制原理 
6R机械手在CMP设备中的运动空间分析
《电子工业专用设备》2011年第11期11-14,56,共5页徐存良 陈波 高文泉 柳滨 
国家02重大专项(2009ZX02011-005A)
工作空间是一个衡量机械手工作能力的重要运动学指标。通过分析抛光机中机械手的工作流程,确定了机械手工作空间;并利用D-H坐标法,建立6R机械手的数学模型,得到机械手末端坐标系相对于基坐标系的传递矩阵。最后,采用蒙特卡洛数值分析法...
关键词：机械手 工作空间 蒙特卡洛法 
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