吴兵

作品数：2被引量：3H指数：1
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供职机构：清华大学理学院化学系更多>>
发文主题：光刻胶HMMM负性集成电路水型更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《高分子通报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金北京市自然科学基金更多>>
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无显影气相光刻(DFVP)研究的进展
《高分子通报》2002年第3期1-4,18,共5页洪啸吟 李钟哲 刘丹 吴兵 卢建平 段生权 陈明 王培清 
国家自然科学基金委的资助 (2 0 0 740 2 1 ;5 963 3 1 1 0 ;5 9473 0 3 1等 ) ;北京市自然科学基金委以及其他单位的支持
无显影气相光刻技术是我国在 1980年发明的一种独特的光刻技术 ,具有不需要显影 ,分辨率高等优点。但它的机理并不清楚。本文介绍十多年来在无显影气相光刻机理研究方面的成果。实验证明 ,无显影气相光刻是以光致光刻胶膜内的诱蚀剂浓...
关键词：无显影气相光刻 光刻胶 二氧化硅 氢氟酸 诱蚀剂 诱蚀机理 刻蚀反应 分辨率 
甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究被引量：3
《感光科学与光化学》1998年第2期154-160,共7页吴兵 李元昌 陈明 林天舒 洪啸吟 焦晓明 程爱萍 陈建军 
国家自然科学基金
本文利用二苯碘盐为光敏产酸物，吩噻嗪为敏化剂，配制了一种甲酚醛树脂———六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）负性水型紫外化学增抗蚀剂，并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应，通过优化后的光刻...
关键词：光刻胶 HMMM 集成电路 化学增幅抗蚀剂 增感剂 
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