杨雄

作品数：4被引量：6H指数：1
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供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文主题：多层膜掩模极紫外投影光刻参数测量衍射仪更多>>
发文领域：电子电信理学更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《光学学报》《光子学报》《光电工程》更多>>
所获基金：应用光学国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
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极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差被引量：5
《光子学报》2006年第5期667-670,共4页杨雄 金春水 张立超 
应用光学国家重点实验室资助项目
讨论了极紫外投影光刻掩模的反射光谱随多层膜参量的变化,通过曲线拟合得到了峰值反射率、带宽和中心波长与多层膜粗糙度、材料比值以及周期厚度的9个函数关系·模拟了6镜极紫外投影光刻系统的反射光谱,并计算了晶圆片处的相对照明强度...
关键词：薄膜光学 极紫外投影光刻 掩模 照明误差 
粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响
《光电工程》2005年第10期80-83,共4页杨雄 金春水 姚志华 曹健林 
应用光学国家重点实验室基金
基于Nevot-Croce模型,计算了一系列具有粗糙界面的极紫外投影光刻掩模的反射光谱。通过拟合计算结果,得到了峰值反射率、带宽和中心波长与粗糙度的函数关系。根据光刻系统对照明均匀性的要求,讨论了在相同粗糙度变化范围内,分别由峰值...
关键词：极紫外投影光刻 掩模 粗糙度 反射光谱 多层膜 
X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备被引量：1
《光学学报》2005年第10期1433-1435,共3页姚志华 金春水 杨雄 张立超 金伟华 曹健林 
介绍了X射线宽带多层膜材料W和B4C的选定方法,依据伯宁(BERNING)公式确定出了在0.154 nm处X射线宽带多层膜的最佳膜对数.引入适当的评价函数,利用具有全局寻优特性且效率较高的遗传算法,在波长0.154 nm处优化设计出了掠入射角(θ)0.5°...
关键词：X射线光学 宽带多层膜 评价函数 遗传算法 磁控溅射 
极紫外投影光刻掩模技术
《微细加工技术》2003年第3期16-21,41,共7页杨雄 金春水 曹健林 
国家自然科学基金重点资助项目(69938020);应用光学国家重点实验室基金资助项目
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状。
关键词：掩模 极紫外投影光刻 缺陷检测 吸收层干刻法 多层膜 
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