石国华

作品数：4被引量：3H指数：1
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发文主题：字符自动标引树算法氮化硅俄歇电子能谱更多>>
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科技文献主题词的自动标引法被引量：2
《杭州大学学报（自然科学版）》1998年第3期54-58,共5页石国华 
本文介绍利用后邻字符树方法对文献进行计算机自动处理，对主题词表进行重排，再结合位置信息实现科技文献主题词的自动标引．
关键词：主题词 自动标引 科技文献 后邻字符树算法 
电子辐照微氮直拉硅单晶的深能级的研究
《电子科学学刊》1995年第3期334-336,共3页丁扣宝 张秀淼 石国华 孙勤生 施建青 
高纯硅国家重点实验室基金
本文研究了电子辐照在氮保护气氛中生长的直拉硅单晶中引入的深能级。没有发现可检测的与氮有关的深能级。
关键词：电子辐射 微氮直接硅单晶 深能级 
用红外吸收谱和俄歇谱研究氮化硅的成分和杂质被引量：1
《Journal of Semiconductors》1993年第10期644-647,共4页张秀淼 石国华 杨爱龄 
国家自然科学基金
本文报道了用国产DD-P250型等离子增强CVD设备制备的氮化硅膜的组分分析结果。用俄歇电子能谱分析了膜中Si/N组分比以及O、C等杂质的含量,研究了组分比与射频功率、SiH_4/NH_3流量比及衬底温度的关系,用红外吸收法分析了膜中氢的含量及...
关键词：氮化硅 杂质 俄歇电子能谱 成份 
玷污硅片的无损检测及洁净工艺
《杭州大学学报（自然科学版）》1991年第3期287-291,T001,共6页石国华 竺树声 卢兆伦 曾庆诚 
省自然科学基金
本文讨论了XCD-H红外电视显微镜对硅片的无损检测,发现硅片在切割、研磨工艺中普遍引入了金属杂质玷污,它是降低器件成品率的主要因素之一.由实验和应用证实了简单、可行的化学腐蚀洁净硅片法去除玷污是十分有效的.
关键词：硅片 玷污 无损检测 洁净 
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