吴隽

作品数：42被引量：68H指数：4
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供职机构：武汉科技大学更多>>
发文主题：高硅织构磁性能磁控溅射反应溅射更多>>
发文领域：一般工业技术金属学及工艺电子电信理学更多>>
发文期刊：《功能材料》《金属热处理》《无机材料学报》《塑性工程学报》更多>>
所获基金：湖北省自然科学基金国家自然科学基金国家重点实验室开放基金湖北省教育厅科学技术研究项目更多>>
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退火温度对取向硅钢组织、织构及磁性能的影响
《金属热处理》2024年第11期143-148,共6页宋坤峰 吴隽 唐超平 朱世同 贾涓 宋新莉 祝柏林 
湖北省重点研发计划(2021BAA018)。
研究了退火温度对Fe-3.2%Si取向硅钢轧向和横向组织、织构及磁性能的影响。结果表明,当退火温度为850~1025℃时,样品未发生二次再结晶,主要织构为α~*织构和γ织构。当退火温度升高至1025~1050℃时,在样品轧向和横向近表面处优先发生二...
关键词：取向硅钢 退火 组织 织构 磁性能 
调制周期数对Mo/AZO成分调制多层膜透光、反光特性以及电性能的影响
《武汉科技大学学报》2024年第2期107-113,共7页张邵奇 吴隽 王凯丰 宋坤峰 卢志红 祝柏林 
国家自然科学基金项目(51871170).
采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,M...
关键词：磁控溅射 Mo/AZO多层膜 调制周期 光性能 电性能 
冷轧压下率对高强无取向电工钢变形组织和磁性能的影响被引量：2
《材料工程》2024年第3期158-165,共8页吴硕 贾涓 宋新莉 程朝阳 吴隽 刘静 
国家自然科学基金项目(52274393,52074200);湖北省自然科学基金项目(2022CFB091)。
借助场发射扫描电镜(SEM+EBSD)、快速升温管式炉和交流磁性能测量仪研究高强无取向电工钢冷轧变形组织和磁性能随冷轧压下率的变化规律。结果表明:冷轧高强无取向电工钢中形成含有大量亚结构的粗糙条带和变形量较小的光滑条带。粗糙条...
关键词：高强无取向电工钢 冷轧压下率 剪切带 织构 磁性能 
磁控溅射参数和锂添加对LiPON薄膜离子电导率的影响
《武汉科技大学学报》2023年第6期424-429,共6页王凯丰 吴隽 张邵奇 宋坤峰 祝柏林 
武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室资助项目(2018QNII)。
锂磷氧氮化合物(LiPON)是一种广泛应用于全固态薄膜电池体系的固态电解质。本文采用射频磁控溅射工艺制备LiPON薄膜,研究了溅射工艺参数和烧结锂片添锂对LiPON薄膜离子电导率的影响。结果表明,在溅射功率为120 W时,随着N_(2)/Ar流量比由...
关键词：射频磁控溅射 固态电解质 LiPON薄膜 锂添加 离子电导率 
MoS_(2)薄膜厚度与光学性能的相关性研究被引量：1
《武汉科技大学学报》2022年第6期424-429,共6页黄成斌 吴隽 张邵奇 祝柏林 
武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室开放课题基金资助项目(2018QNll).
采用低功率射频磁控溅射方法分别在玻璃和Si衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)薄膜,经硫化退火处理后,利用Raman光谱、AFM、UV-Vis光谱和45°镜面反射光谱,对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明,两种衬底上沉积的MoS_(2)薄膜经...
关键词：MoS_(2)薄膜 薄膜厚度 磁控溅射 光学特性 反射光谱 激子峰 
淬火法制备热固化环氧树脂基聚合物分散液晶膜及其调光性能的优化被引量：1
《材料导报》2022年第8期158-165,共8页易昌鸿 胡钢 祝柏林 陈红祥 吴隽 顾华志 
国家自然科学基金(50902105)。
聚合物分散液晶(PDLC)膜是液晶(LC)微滴分布在聚合物网络结构中形成的一种通过施加电压实现雾化态与透明态转换的材料,可应用于智能调光玻璃等领域。以双酚A环氧树脂(EP)与两种不同分子量的聚醚二胺(D400和D2000)反应生成的交联聚合物作...
关键词：聚合物分散液晶膜 环氧树脂 热固化 淬火工艺 调光性能 
插入NiCr合金层对SnO_(2)/Ag/SnO_(2)多层结构透明导电薄膜热稳定性的影响
《功能材料》2022年第2期2167-2173,共7页郑思龙 祝柏林 易昌鸿 王崇杰 吴隽 
高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室开放课题基金项目(SKL201110SIC)。
室温下通过磁控溅射技术制备了SnO_(2)/Ag/SnO_(2)(SAS)、SnO_(2)/Ag/NiCr/SnO_(2)(SANS)和SnO_(2)/NiCr/Ag/NiCr/SnO_(2)(SNANS)三类多层膜。采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、霍尔效应测量仪和紫外-可见分光光度计研究了大气...
关键词：氧化物/金属/氧化物多层膜 透明导电性 退火处理 热稳定性 品质因子 
反应磁控溅射法制备F掺杂ZnO(FZO)薄膜的结构和透明导电性能被引量：1
《材料工程》2021年第11期98-104,共7页祝柏林 郑思龙 谢挺 吴隽 
高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室开放课题基金(SKL201110SIC)。
以Zn/ZnO/ZnF_(2)混合物为靶材,在衬底温度(T_(s))为150℃和300℃、溅射气氛为Ar+O_(2)和Ar+H_(2)下反应溅射制备F掺杂ZnO(FZO)薄膜,研究气体流量、T_(s)以及溅射气氛对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果表明:对于Ar+O_(2)下制备的FZ...
关键词：复合靶材 反应溅射 FZO薄膜 透明导电性 禁带宽度 
(Ti/ZnO)_(N)成分调制纳米多层膜的结构与透光导电性研究被引量：1
《人工晶体学报》2021年第8期1478-1484,共7页牛犇 吴隽 王凯丰 黄成斌 付豪 祝柏林 李涛涛 姚亚刚 
中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02)。
采用射频(RF)和单极中频直流脉冲磁控溅射方法,在玻璃基板上制备了(Ti/ZnO)_(N)成分调制纳米多层膜,并研究了调制周期数对其结构及透光导电性能的影响。通过X射线衍射、拉曼光谱、原子力显微镜、紫外可见吸收光谱以及霍尔效应测试结果表...
关键词：磁控溅射 (Ti/ZnO)_(N) 调制周期数 透光率 电性能 
英寸级少层MoS_(2)薄膜的低温可控制备被引量：2
《材料导报》2021年第12期12039-12043,共5页郭才胜 吴隽 牛犇 熊芬 祝柏林 黄成斌 刘静 
大面积二硫化钼(MoS_(2))薄膜的可控制备是其走向应用的关键环节,尤其是少层及P型电导的MoS_(2),对于器件应用具有重要意义,但鲜有文献报道。本工作采用室温射频(RF)磁控溅射法,在玻璃衬底上制备了英寸级的少层MoS_(2)薄膜,并经低温退火...
关键词：MoS_(2) 低温硫化退火 大面积制备 场效应晶体管 
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