中国博士后科学基金(2005037242)

作品数：6被引量：7H指数：2
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压印光刻中紫外光诱导阻蚀胶固化控制计算
《光子学报》2007年第B06期231-234,共4页陈立峰 卢秉恒 
国家自然科学基金(50505037);国家973重点基础研究发展计划(2003CB716203);中国博士后科学基金(2005037242)资助
针对压印过程中两类基本的复型缺陷,从实验分析中得出其主要原因是曝光后阻蚀胶的固化程度难以控制.通过分析紫外曝光光源与阻蚀胶的光谱匹配性,得出使得阻蚀胶固化的有效波长为365 nm;对光诱导紫外曝光过程中紫外光的传播分析,建立了...
关键词：压印光刻 固化程度 粘度 
压印光刻中模具空间位姿的识别及仿真
《西安交通大学学报》2007年第1期55-58,共4页蒋维涛 丁玉成 卢秉恒 刘红忠 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50505037);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)
在纳米压印光刻中,为了减小模具与晶片的平行度误差,将精对正光栅标记的相对误差校正到半栅距范围之内,并建立了点光源映射的数学模型,对模具空间位姿的投影进行图像识别.在算法设计的基础上,建立了纳米压印光刻系统中的粗对正系统及其...
关键词：纳米压印 点光源映射 粗对正 
紫外压印光刻中阻蚀胶残膜刻蚀工艺被引量：1
《西安交通大学学报》2006年第11期1276-1279,共4页史永胜 丁玉成 卢秉恒 刘红忠 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50505037);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)
针对紫外(UV)压印光刻在压印工艺过程中会产生阻蚀胶残膜的技术特点,采用以O2为反应气体来清除阻蚀胶残膜的反应离子刻蚀(RIE)工艺方法,研究了不同的反应气体流量、反应腔室压力、射频功率等刻蚀参数对刻蚀速率和刻蚀各向异性的影响,得...
关键词：紫外压印 阻蚀胶 残膜 反应离子刻蚀 
紫外光固化中阻蚀胶薄膜应力分析及成膜控制被引量：2
《西安交通大学学报》2006年第9期1028-1031,共4页尹磊 丁玉成 卢秉恒 刘红忠 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50505037);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析....
关键词：压印光刻 阻蚀胶 基片曲率法 薄膜应力 成膜控制 
基于纳米压印技术的光伏器件微三维构型研究被引量：1
《传感技术学报》2006年第05A期1455-1458,共4页尹磊 刘红忠 丁玉成 卢秉恒 
国家重点基础研究发展计划项目资助(2003CB716203);国家自然科学基金项目资助(50505037);中国博士后科学基金项目资助(2005037242)
将纳米压印技术应用到三明治结构光伏器件制作.采用具有三维微结构(平行波纹、离散孤岛)软模具,通过纳米压印将定制化微三维结构转印到电子给体层和电子受体层的异质结界面上,以增大异质结界面实际面积,提高光伏效率.通过仿真计算,模拟...
关键词：纳米压印 三维微结构 光伏器件 
纳米压印光刻中的多步定位研究被引量：3
《西安交通大学学报》2006年第3期261-264,269,共5页刘红忠 丁玉成 卢秉恒 王莉 邱志惠 
国家自然科学基金资助项目(50505037);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)
在步进重复式压印光刻中,为了避免承片台支撑绞链结构间隙及微观姿态调整往返运动导致的表面材料不规则形变,建立了单调、无振荡、多步逼近目标位置的宏微两级驱动系统,并提出了径向基函数-比例、积分、微分(RBF-PID)及单调位置控制算法...
关键词：纳米压印光刻 多步定位 非线性控制 
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