国家自然科学基金(50275118)

作品数：20被引量：42H指数：5
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纳米压印光刻工艺的研究进展和技术挑战被引量：6
《青岛理工大学学报》2010年第1期9-15,共7页丁玉成 
国家自然科学基金项目(50275118);山东省自然科学基金重点项目(ZR2009FZ007);泰山学者建设工程专项经费资助
图形化技术是微纳制造过程的核心工艺之一.目前,作为微纳加工主流工艺的光学光刻技术由于受曝光波长衍射极限的物理限制,其技术复杂性和设备制造成本大幅增加.纳米压印将传统的模板复型原理应用到微观制造领域,以其高分辨率、高效率、...
关键词：微纳制造 纳米压印光刻 研究进展 技术挑战 
压印光刻中的两步对正技术被引量：2
《光子学报》2006年第10期1608-1612,共5页王莉 卢秉恒 丁玉成 刘红忠 
国家自然科学基金(50275118);国家863计划重点(2002AA420050);国家重点基础研究发展计划(2003CB716203)资助
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正...
关键词：压印光刻 对正准确度 光栅 莫尔信号 粗对正 精对正 
射频鞘层中等离子体浓度对离子动量的影响
《电子元件与材料》2006年第5期65-68,共4页李志刚 丁玉成 
国家高技术研究发展计划(863计划)重点资助项目(2002AA420050);国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2003CB716202);国家自然科学基金资助项目(50275118)
利用射频鞘层模型，推出了离子到达被加工材料表面时的动量的表达式．利用表达式分析了离子轰击材料表面的动量与等离子体浓度的关系．理论分析与实验数据有较好的吻合．等离子体浓度的增大对鞘内离子动量起抑制作用：随等离子体浓度（1...
关键词：半导体技术 等离子体 鞘层 射频 离子 动量 等离子体浓度 
等离子体浓度对离子撞击材料表面能量通量的影响
《电工技术学报》2006年第7期10-14,共5页李志刚 丁玉成 
国家高技术研究发展计划(863计划)重点资助项目(2002AA420050);国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2003CB716202);国家自然科学基金资助项目(50275118)
研究了射频鞘层中离子轰击材料表面的能量通量与等离子体浓度之间的关系。在射频鞘层模型基础上,推出了离子轰击材料表面的速度、浓度及能量通量的表达式。分析了等离子体浓度对离子能量通量的影响。实验数据与理论分析有较好吻合,验证...
关键词：等离子体 浓度 离子 表面 能量通量 
分步式压印光刻研究
《纳米科技》2006年第2期26-29,共4页邱志惠 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 
国家自然科学基金资助项目（50275118）;国家863计划重点资助项目（2002AA420050）.
针对微纳制造中光刻环节的光衍射限制，讨论了可能成为下一代光刻技术路线的压印光刻。通过对比热压印、微接触转印及常温压印的技术特点，设计了一套低成本、结构简单的紫外光固化常温压印光刻机构。其大行程纳米级定位、纳米级下压系...
关键词：微纳制造 压印 光刻 
步进闪光压印光刻模具制作工艺研究被引量：5
《西安交通大学学报》2006年第3期337-340,共4页李寒松 丁玉成 卢秉恒 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50275118);国家高技术研究发展计划资助项目(2002AA420050)
由于硅橡胶具有良好的自适应性和优异的脱模性,所以选取硅橡胶作为模具材料,并确定使用硅橡胶加石英硬衬作为压印光刻工艺的模具.分析了硅橡胶模具制作工艺中真空辅助浇铸的成型过程,以及交联固化反应过程的各个工艺参数对硅橡胶模具性...
关键词：压印光刻 硅橡胶 模具 
低气压容性射频放电中电流密度对鞘内离子能量通量的影响
《中国电机工程学报》2006年第5期164-169,共6页李志刚 丁玉成 
国家自然科学基金项目(50275118);国家高技术研究发展计划(863计划)重点项目(2002AA420050);国家重点基础研究发展计划(973计划)项目(2003CB716202)。~~
研究了低气压容性射频放电电流密度与离子到达被加工材料表面的能量通量之间的关系。在Lieberman的射频鞘模型基础上,计算离子从等离子体内部到材料表面所经历的时间平均的总鞘电势差,发展了Lieberman的模型。并利用离子浓度和总鞘电势...
关键词：射频放电 等离子鞘 离子 能量通量 电流密度 
驱动电流密度对低压容性射频鞘电势及离子动能的影响被引量：2
《西安交通大学学报》2005年第11期1241-1245,共5页李志刚 丁玉成 
国家高技术研究发展规划重点资助项目(2002AA420050);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716202);国家自然科学基金资助项目(50275118)
研究了离子轰击被加工材料表面的能量与射频驱动电流密度之间的关系.在Lieberman的低压容性射频等离子鞘模型基础上,考虑Bohm速度对应的鞘前电势差,将鞘前电势差与Lieberman的鞘内电势合并,发展了Lieberman的模型,并推出了总电势差与驱...
关键词：等离子鞘 射频 电流密度 电势 离子动能 
冷压印光刻中斜纹光栅对准信号计算模型被引量：1
《光电工程》2005年第10期93-96,共4页成丹 卢秉恒 丁玉成 王莉 
国家自然科学基金项目(50275118);国家863计划项目;国家重点基础研究发展计划项目(2003CB716203)
采用傅里叶光学的方法,分析了冷压印光刻中新型斜纹光栅对准标记的透光特性。分析表明,对准信号与光栅副相对位移之间是正弦变化关系,且对准位置附近是一个陡直的线性区。该区对准信号的灵敏度很高,适合于多层套刻对准,根据信号和位移...
关键词：压印光刻 斜纹光栅 对准 傅里叶光学 莫尔条纹 
高保真度五步加载纳米压印光刻的研究被引量：2
《西安交通大学学报》2005年第9期933-936,共4页严乐 刘红忠 丁玉成 卢秉恒 
国家重点基础研究发展规划资助项目(2003CB716202);国家高技术研究发展计划重点资助项目(2002AA420050);国家自然科学基金资助项目(50275118).
从理论上建立了压印光刻工艺中留膜厚度与压印力的关系,为压印预设曲线的建立提供了理论依据.基于液态光敏抗蚀剂在紫外光照射下发生光固化反应这一特性,对固化过程进行了详细的分析,建立了抗蚀剂的固化深度与紫外光曝光量之间的关系....
关键词：压印光刻 加载 抗蚀剂 高保真度 
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