南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心

作品数：13被引量：31H指数：3
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发文作者：陈建军陈秀敏钱永胜更多>>
发文领域：电子电信理学机械工程更多>>
发文主题：彩色PDP光刻工艺等离子体显示器优化设计PDP更多>>
发文期刊：《光电子技术》《液晶与显示》《半导体光电》《真空电子技术》更多>>
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一种提高硅基OLED微显示器对比度的像素电路被引量：3
《固体电子学研究与进展》2015年第3期267-271 283,283,共6页杨淼 张白雪 陈建军 曹允 
提出了一种应用于硅基有机发光二极管(Organic light emitting diode,OLED)微显示驱动芯片的新型像素单元电路,具有三个MOSFET和一个存储电容。相比传统的电压驱动像素单元电路,增加的一个MOSFET,可以根据输入数据的变化,自动调节其等...
关键词：硅基有机发光二极管 微显示 像素单元电路 
有源矩阵液晶显示器微功耗低温加固技术被引量：10
《液晶与显示》2003年第5期342-347,共6页余雷 钱永胜 
国家军用电子器件重大攻关项目(9904AG08)
介绍一种新研制的低温液晶显示器(LCD),在显示器中设计了一套透明的加热、真空保温、抗眩光及电磁屏蔽装置,低温工作时,只需非常小的加热功率,就能使液晶显示器正常工作,同时可以利用该装置中的氧化铟锡(ITO)导电膜层满足显示器视窗对...
关键词：有源矩阵低温液晶显示器 设计 电磁兼容 低温加固 微功耗 真空保温 防眩光 可靠性 
彩色PDP的研究课题被引量：1
《真空电子技术》2003年第2期44-48,共5页刘忠安 
简述了彩色PDP的研究课题、相关的技术问题、需解决的关键技术及相关的重点研究课题。
关键词：等离子体显示器 亮度 发光效率 制作工艺 
液晶显示器件的最新发展被引量：1
《真空电子技术》2002年第6期25-27,共3页朱昌昌 
简要介绍液晶显示器件其市场现状和未来发展方向 ,主要叙述TFT LCD、LCOS等技术的特点、最新发展及运用前景。
关键词：液晶显示器 薄膜晶体管 硅基液晶显示 
彩色PDP光刻工艺的优化理论和设计
《真空科学与技术》2001年第3期217-219,共3页刘忠安 
提出了用有效时差优化彩色PDP光刻工艺参数的理论和优化设计方法 ,并用实例说明了该理论的实用性。
关键词：有效时差 光刻工艺 彩色等离子体显示器 优化设计 光刻参数 
厚膜光刻工艺在PDP中的应用被引量：6
《光电子技术》2001年第1期39-44,共6页陈秀敏 
简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。
关键词：厚膜 光刻工艺 等离子体显示器 电极 
光刻工艺参数的优化方法被引量：6
《半导体光电》2001年第1期52-53,61,共3页刘忠安 
通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。
关键词：光刻工艺 有效时差 优化设计 半导体 
厚膜印刷模型
《半导体光电》2000年第6期430-432,共3页刘忠安 
提出了厚膜印刷的物理模型 ,并用静态模型建立了丝网印刷参数和图形的压印形变量之间的关系 ,以解决实际印刷工艺中的图形匹配和精确套印问题。
关键词：静态模型 厚膜印刷 物理模型 半导体工艺 
彩色PDP喷砂工艺的障壁层清除速率和工艺稳定性研究被引量：3
《真空科学与技术》2000年第6期454-456,共3页刘忠安 
国家自然科学基金青年基金!资助项目 (5 970 2 0 0 5 )
提出了彩色PDP喷砂工艺障壁层清除速率的测量公式和减小测量误差的方法 ,讨论了影响清除速率的相关参数及用清除速率定量控制喷砂工艺的条件。指出高耐磨并采用特殊设计的喷头是提高喷砂工艺稳定性和可控性的关键 ,小孔径圆柱状喷头不...
关键词：障壁层清除速率 喷砂工艺 彩色等离子体显示器 
彩色PDP障壁粉清除速率公式与喷砂工艺控制研究被引量：2
《真空电子技术》2000年第1期28-30,55,共4页刘忠安 
本文讨论了彩色PDP喷砂工艺中障壁粉清除速率与喷砂工艺控制参数之间的关系,提出了用障壁粉清除速率公式来控喷砂工艺的方法。
关键词：喷砂工艺 障壁 清除速率公式 等离子体显示器 
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