射频反应磁控溅射

作品数：42被引量：117H指数：5
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相关期刊：《武汉理工大学学报》《传感技术学报》《光学学报》《西北师范大学学报（自然科学版）》更多>>
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氧氩比对磁控溅射ZnO薄膜结构及光致发光性能的影响被引量：2
《理化检验（物理分册）》2011年第12期763-766,共4页刘丹 李合琴 刘涛 武大伟 
国家"973"计划资助项目(2008CB717802);安徽省自然科学基金资助项目(090414182;11040606M63);安徽省高校自然科学基金资助项目(KJ2009A091)
采用射频反应磁控溅射法以不同的氧氩比在玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,并对薄膜进行了退火处理;利用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的物相组成和表面形貌进行了分析,利用荧光分光光度计对ZnO薄膜的室温光致发光(PL)谱进行...
关键词：ZNO薄膜 射频反应磁控溅射 光致发光 
CLAM钢表面硬质薄膜的制备与性能研究
《真空》2011年第3期67-71,共5页储汉奇 李合琴 都智 聂竹华 
国家"973"项目(2008CB717802);安徽省自然科学基金(090414182);安徽省高校自然科学基金(KJ2009A091)
采用射频反应磁控溅射法在中国低活化马氏体(CLAM)不锈钢表面制备了单层A12O3、SiC、W薄膜以及SiC/A12O3、W/A12O3双层膜。对所制备的薄膜进行了XRD结构分析、AFM表面形貌测试和显微硬度测试。结果表明:单层SiC薄膜表面出现了部分脱落,...
关键词：射频反应磁控溅射 CLAM钢 A12O3薄膜 SIC薄膜 W薄膜 SiC/A12O3双层膜 W/A12O3双层膜 显微硬度 
溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响被引量：5
《发光学报》2010年第4期503-508,共6页祐卫国 张勇 李璟 杨峰 CHENG C H 赵勇 
国家自然科学基金(50588201,50872116);国家重大基础研究项目“973”(2007CB616906);国家高科技项目“863”(2007AA03Z203);高等学校博士点专项科研基金(SRFDP200806130023);西南交通大学科研基金(2008B15)资助项目
用射频反应磁控溅射法在不同溅射压强和氩氧比下制备了ZnO薄膜,通过X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和光致发光（PL）谱等研究了溅射压强和氩氧比对ZnO薄膜结构和光学性质的影响。测量结果显示,所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构,具有...
关键词：ZNO薄膜 射频反应磁控溅射 溅射压强 氩氧比 光致发光 
ITO薄膜制备及RTA处理对发光器件特性的影响被引量：5
《光电子．激光》2007年第8期903-906,共4页袁广才 徐征 张福俊 王勇 许洪华 
国家自然科学基金资助项目(10374001;60576016);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB314707);国家自然科学基金重点资助项目(10434030)
采用射频反应磁控溅射生长铟锡氧化物(ITO)薄膜,通过X射线衍射(XRD)、透射光谱、四探针法及原子力显微镜(AFM)研究了生长条件、快速热退火(RTA)温度等对薄膜的晶化、透过率、电导率以及表面形貌的影响。以ITO/NPB/AlQ/Al结构的器件为例...
关键词：射频反应磁控溅射 ITO薄膜 快速热退火(RTA) 电致发光(EL) 
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