凸角补偿

作品数：18被引量：35H指数：3
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相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
相关作者：明安杰梁静秋王维彪陈维友董玮更多>>
相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林大学华中科技大学北京大学更多>>
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硅KOH腐蚀<100>晶向凸角补偿技术及应用被引量：2
《传感器技术》2005年第7期22-24,共3页王浙辉 李昕欣 王跃林 
国家重点基础研究发展规划资助项目(G1999033104)
在(100)硅上制作边沿<100>晶向的长方形掩模,用KOH各向异性腐蚀液腐蚀可制得竖直微镜,这种微镜存在凸角削角问题。研究了边沿<100>晶向掩模的凸角补偿技术,提出了2种凸角补偿图形,并应用于竖直微镜制作。实验表明“工”形补偿可获得方...
关键词：各向异性腐蚀 削角补偿 微镜 微机械加工 
硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用被引量：1
《半导体光电》2004年第6期477-479,483,共4页孙洋 钱可元 韩彦军 蔡鹏飞 罗毅 雷建都 童爱军 
国家"973"计划项目 (G2 0 0 0 - 0 3 - 660 1 ) ;国家"863"计划项目 (2 0 0 1AA3 1 2 1 80 )
　基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻蚀,获得了表面平整和凸角完整的刻蚀结果,制作了用于微模塑工艺的硅基阳模,并成功地用于聚甲基乙烯基硅氧烷微分析芯片的制作上。
关键词：硅材料 湿法刻蚀 凸角补偿 微分析芯片 
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