平面光学元件

作品数：29被引量：62H指数：4
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基于压力分布的环摆式双面抛光去除均匀性研究
《光学学报》2024年第16期278-291,共14页毛晨 肖博 王春阳 白祎凡 黄思玲 王大森 
构建了一种基于速度和压力分布模型的材料去除量分布计算模型。建立了环摆式双面抛光的有限元模型,对5种半径的上抛光盘在不同加工压力下与元件接触面的压力分布进行分析,通过拟合得到压力分布特性模型。根据Preston方程,将压力分布模...
关键词：大口径平面光学元件 环摆式双面抛光法 压力分布特性 去除均匀性 材料去除量计算模型 
平面光学元件超平整吸附装载的优化设计与分析被引量：1
《机械工程学报》2024年第5期241-248,共8页赵承伟 张文豪 龚天诚 张逸云 王长涛 罗先刚 
四川省科技计划(2022YFG0001);中国科学院青年创新促进会(202238)资助项目。
在平面光学元件加工和应用中,采用真空吸附方式进行装载,具有快速、稳定的优势,而真空吸附对平面光学元件的面形影响不可忽视。基于有限元分析方法,针对功能窗口限制、倒立装载等特殊需求,对真空吸盘气道进行优化设计,并通过实验对真空...
关键词：真空吸附 气道优化 有限元分析 面形测量 扭矩控制 
基于反向共轴的大口径平面光学元件面形测量被引量：3
《计量学报》2021年第12期1571-1578,共8页赵彦龙 李加福 朱小平 杜华 陈爱军 胡佳成 
国家市场监督管理总局质量技术基础能力建设专项(ANL1822);重大科学仪器设备开发重点专项(24-YQKFB1803-1)。
提出了一种基于反向共轴的大口径平面光学元件面形测量方法。将双位移传感器反向共轴线扫描测量模式和多角度旋转三面互检技术结合,借助直线长导轨有效扩大平面光学元件测量口径,同时测量过程中不需要使用标准平晶,避免引入标准平晶参...
关键词：计量学 面形测量 光学元件 大口径平面 反向共轴 双位移传感器 三面互检 
基于位相测量偏折术的高精度检测平面光学元件面形的方法被引量：3
《应用光学》2020年第4期844-856,共13页李大海 王瑞阳 张新伟 
国家自然科学基金(61875142)。
针对位相测量偏折术(phase measuring deflectometry,PMD)在光学元件面形的高精度检测中存在面形低阶误差控制困难等问题,介绍了位相测量偏折术检测平面光学元件面形的基本原理,对有关PMD技术的面形改进重建算法、相对检测和四步剪切的...
关键词：测量 光学检测 位相测量偏折术 平面光学元件 高精度检测 低阶像差 大口径拼接检测 寄生反射 
大口径平面光学元件波前梯度数控抛光被引量：10
《光学精密工程》2019年第7期1473-1480,共8页黄金勇 赵恒 胡庆 高胥华 
国家863高技术研究发展计划资助项目
针对改善光学元件的波前梯度均方根指标,在总结面形精度及面形分布对波前梯度指标影响规律的基础上,提出了基于匀滑面形拟合加工的方法,给出了该方法的基本思想和工作流程。首先,对原始面形数据进行扫描计算,标记波前突变数据。然后,采...
关键词：光学加工 光学元件 数控抛光 波前梯度均方根 匀滑面形拟合 
平面光学元件抛光中沥青抛光胶材料特性研究
《冶金管理》2019年第13期21-22,25,共3页曹明琛 刘孟奇 赵凌宇 谢瑞清 赵惠英 
国家科技重大专项“大口径平面快速抛光机床研制”(2017ZX04022001-202);国防科工局基础产品创新计划车用动力科研专项(DEDPZF).
化学机械抛光(CMP)是平面光学元件超精密加工的重要手段,其所用的沥青材料抛光胶虽历史悠久,但仍需要人工进行试错选型。针对国内外多种沥青抛光胶,进行了材料特性分析,包括针入度、软化点等。通过Burgers蠕变模型对沥青抛光胶的粘弹性...
关键词：平面抛光 光学元件 沥青 材料特性 蠕变模型 
相对角差法重建大口径平面光学元件面形被引量：2
《光学学报》2019年第6期304-311,共8页巫玲 陈念年 范勇 叶一东 
针对已有的相对角差法面形检测的原理验证装置,提出了一种具有更高稳健性的最小二乘积分面形重建算法。利用相对角差改写了经典最小二乘积分技术的代价函数,避免了积分重建中的测量误差累积的问题,空间复杂度和时间复杂度仍分别为O(N^2)...
关键词：测量 面形检测 角差法 相对测量 最小二乘积分重建 大口径平面光学元件 
平面光学元件微位移测量及仿真
《西安工业大学学报》2017年第5期357-362,共6页弥谦 赵昊天 
陕西省薄膜重点实验室项目(12JS046)
为了实现针对平面光学元件的微位移测量,提出了一种新型的基于消光式椭偏法的测量方法.通过对光线传播过程中椭圆偏振态的变化进行分析,推导出了在消光条件下,平面光学元件标准件与被测件之间的间距与起偏器方位角及检偏器方位角之间的...
关键词：椭偏法 消光法 平面光学元件 微位移测量 
平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹曲率研究被引量：2
《光学技术》2017年第4期289-293,共5页杨晓京 李明 
国家自然科学基金资助项目(51365021)
为提高研磨抛光加工表面质量,利用Matlab软件编制程序对不同参数下轨迹曲线曲率进行计算分析。结果表明,转速比对磨粒运动轨迹曲线曲率影响很大;相同转速比下的曲线曲率呈现周期性变化,曲率变化幅值很小;磨粒径向距离越大,曲率变化越剧...
关键词：运动轨迹 曲率 幅值 MATLAB软件 
平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究被引量：5
《半导体光电》2017年第3期355-360,共6页杨晓京 李明 
国家自然科学基金项目(51365021)
为提高平面光学元件的加工质量和效率,理解元件与抛光盘之间的相对运动轨迹变化规律是获得良好表面质量的重要前提。根据"运动学原理"和"坐标变换"建立了磨粒运动轨迹模型,推导了磨粒轨迹长度公式。利用Matlab软件模拟计算了各参数下的...
关键词：轨迹长度 轨迹变化形态 去除速率 表面质量 
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