机械抛光

作品数：1251被引量：2245H指数：20
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超声作用下碳化硅CMP流场特性分析
《金刚石与磨料磨具工程》2025年第1期102-112,共11页王泽晓 叶林征 祝锡晶 刘瑶 啜世达 吕博洋 王栋 
针对目前碳化硅抛光效率低、表面质量差等加工难题,采用超声辅助CMP(UCMP)加工工艺对其表面进行光滑无损化抛光。为探究超声辅助对CMP流场的影响,以超声振动下的抛光流场特性为研究对象,基于可实现k−ε模型对超声作用下的抛光流场特性...
关键词：超声辅助 碳化硅 流体动力学仿真 化学机械抛光 
铌酸锂晶体超精密加工技术研究进展
《金刚石与磨料磨具工程》2024年第6期695-724,F0003,共31页田业冰 魏成伟 宋晓梅 钱乘 
国家自然科学基金(51875329);山东省泰山学者工程专项(tsqn201812064);山东省自然科学基金(ZR2023ME112,ZR2017MEE050)。
铌酸锂(LiNbO_(3))晶体光电特性优异,是制造光学调制器、频率倍增器、滤波器等光电子器件的首选材料,在5G无线通信、微纳/集成光子学和人工智能等前沿领域具有巨大应用价值。然而,铌酸锂晶体硬度低、脆性大、各向异性强,大尺寸高品质晶...
关键词：铌酸锂 超精密加工 表面/亚表面损伤 高剪低压磨削 化学机械抛光 磁性剪切增稠抛光 
光学玻璃CMP用LaCePr抛光液制备及其组织和性能
《金刚石与磨料磨具工程》2024年第6期816-824,共9页张全鑫 李虎平 史俊龙 宿爱 陈贵青 谢浩 金玉培 胡广寿 
以包头混合型稀土矿经浓硫酸强化焙烧、水浸、中和除杂、P507萃取转型分级的产物为原料配制LaCe-Pr氯化液,以碳酸氢铵和氨水的混合液为沉淀剂,氢氟酸为氟化剂,聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠、氢氧化钠等为添加助剂,通过并流沉淀、氟化、高温...
关键词：化学机械抛光 光学玻璃 抛光液 制备 组织和性能 
单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探
《金刚石与磨料磨具工程》2024年第1期101-108,共8页薛明普 肖文 李宗唐 王占奎 苏建修 
针对碳化硅(SiC)基片在抛光过程中效率低、费用高、环境污染大等问题,提出了一种在干式状态下对SiC基片进行摩擦化学机械抛光的方法(dry tribochemical mechanical polishing,DTCMP)。探究不同工艺参数(磨料种类、磨粒粒径、磨粒含量、...
关键词：SiC基片 干式摩擦化学机械抛光 材料去除率 表面粗糙度 
磨粒振动对碳化硅CMP的微观结构演变和材料去除的影响
《金刚石与磨料磨具工程》2024年第1期109-122,共14页唐爱玲 苑泽伟 唐美玲 王颖 
针对化学机械抛光中磨料易团聚、机械和化学作用不能充分发挥等问题,采用振动辅助的方法进行优化。通过分子动力学模拟,分析磨粒振动的频率、振幅及其压入深度、划切速度对工件表面微观原子迁移的演变规律,揭示振动对材料去除和表面改...
关键词：碳化硅 振动 化学机械抛光 分子动力学 
环境控制与等离子体技术融合对未来高精密抛光难加工材料所构成的挑战(英文)
《金刚石与磨料磨具工程》2022年第6期637-649,F0003,共14页土肥俊郎 會田英雄 大西修 尹韶辉 任莹晖 
以碳化硅、氮化镓和金刚石为代表的宽禁带半导体材料是典型的难加工材料。本研究中,设计2种基于化学机械抛光(CMP)的加工设备,以开发高效高质量加工此类晶体衬底的新技术,并研究讨论使用新设备时的加工机理和难加工衬底的加工特征。加...
关键词：化学机械抛光(CMP) 难加工晶片 箱式设备 等离子体化学蒸发加工 等离子体熔融化学机械抛光 伪自由基场 加工机理 
基于响应面法的单晶硅CMP抛光工艺参数优化被引量：3
《金刚石与磨料磨具工程》2022年第6期745-752,共8页卞达 宋恩敏 倪自丰 钱善华 赵永武 
国家自然科学基金(51675232);江苏省自然科学基金(BK20190611)。
为提高单晶硅化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)的表面质量和抛光速度,通过响应面法优化CMP抛光压力、抛光盘转速和抛光液流量3个工艺参数,结果表明抛光压力、抛光盘转速、抛光液流量对材料去除率和抛光后表面粗糙度的...
关键词：化学机械抛光 硅 响应面法 材料去除率 表面粗糙度 
络合剂对316L不锈钢化学机械抛光效果的影响被引量：1
《金刚石与磨料磨具工程》2022年第6期753-759,共7页陈国美 杜春宽 倪自丰 卞达 王浩 章平 张鑫 
国家自然科学基金(52205196);江苏省高校自然科学研究项目(19KJB460023);江苏省高校青蓝工程(2021);无锡商业职业技术学院超精密加工与智能制造科研创新团队(XTD202107);无锡商业职业技术学院智能制造与服务协同创新中心科研平台(KYPT20309);无锡商业职业技术学院机器视觉工程技术中心科研平台(KYPT21304)。
为提高316L不锈钢化学机械抛光(chemical-mechanical polishing,CMP)效率,针对络合剂类型对316L不锈钢加工效果的影响及影响机制进行研究。以材料去除率(material removal rate,MRR)和表面粗糙度(Ra)为指标,探究络合剂类型(甘氨酸、草...
关键词：化学机械抛光 316L不锈钢 络合剂 电化学 芬顿反应 
均一亚微米级氧化铈抛光粉的制备被引量：4
《金刚石与磨料磨具工程》2022年第4期428-432,共5页戴蒙姣 陈国美 倪自丰 章平 钱善华 卞达 
为得到均一的亚微米级二氧化铈(CeO_(2))抛光粉,以六水合硝酸铈(Ce(NO_(3))_(3)·6H_(2)O)为原料,以醇-水混合溶液为溶剂,采用溶剂热法合成CeO_(2)。改变Ce^(3+)浓度和醇-水体积比,利用X射线衍射仪(XRD)、激光粒度分布仪、扫描电子显微...
关键词：CEO2 均一 溶剂热法 化学机械抛光 
铜化学机械抛光的弱缓蚀剂研究被引量：1
《金刚石与磨料磨具工程》2021年第5期32-39,共8页徐浩 宋恩敏 卞达 赵永武 
国家自然科学基金(51675232);江苏省自然科学基金(BK20190611)。
利用电化学、接触角、化学机械抛光等试验研究一种新型环保的铜缓蚀剂聚乙烯吡咯烷酮(polyvinyl pyrrolidone,PVP)的效果。结果表明:PVP在铜化学机械抛光中具有一剂多用的效果,将其与另一种环保弱缓蚀剂1,2,4–三氮唑(1,2,4–triazole,T...
关键词：铜 弱缓蚀剂 聚乙烯吡咯烷酮 混合缓蚀剂 
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