光学邻近效应

作品数：34被引量：53H指数：3
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相关机构：ASML荷兰有限公司中国科学院微电子研究所中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力集成电路制造有限公司更多>>
相关期刊：《微电子技术》《光学学报》《微细加工技术》《中国集成电路》更多>>
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用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
《微细加工技术》2000年第2期39-44,共6页杜惊雷 粟敬钦 张怡霄 郭永康 崔铮 
国家自然科学基金资助项目!(6 990 70 0 3)
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可...
关键词：灰阶编码掩模 光学邻近效应校正 光学光刻 
基于光场分布的光学邻近效应校正被引量：2
《微细加工技术》1998年第1期7-10,共4页杜惊雷 黄晓阳 黄奇忠 郭永康 
本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。
关键词：光学邻近效应 校正 散射 光场分布 
光学邻近效应的计算机模拟研究
《微细加工技术》1998年第1期11-18,共8页黄晓阳 杜惊雷 郭永康 孙国良 
国家自然科学基金;光电所微细加工光学技术国家重点实验室基金
本文以部分相干光的衍射理论为基础，分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响，讨论了光学邻近效应产生的物理机理，确定了其有效作用范围，为研究光学邻近效应校正打下了基础。
关键词：部分相干 光学邻近效应 计算机模拟 
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