光学曝光

作品数：11被引量：13H指数：2
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相关作者：刘鑫张满唐波安跃华邓启凌更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院微电子研究所合肥工业大学艾克塞利斯技术公司更多>>
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亚微米i线和g线投影光刻物镜研制被引量：9
《微细加工技术》1997年第2期23-30,共8页陈旭南 林大键 王效才 
本文介绍了分步重复投影光刻机的i线和g线投影光刻物镜主要技术指标、设计要点、研制中解决的关键单元技术和设计试制结果。结果表明数值孔径NA＝0．42i线和NA＝0．45g线、视场15×15mm以及畸变＜±0．1μm的五倍缩小投影光刻物镜研制...
关键词：光学曝光 投影光刻物镜 光刻机 
相移掩模的制作被引量：2
《微细加工技术》1997年第1期8-16,共9页冯伯儒 陈宝钦 
国家自然科学基金;"微细加工光学技术国家实验室"基金
本文阐述相移掩模（PSM）技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无铬PSM、Levenson交替型PSM、边缘PSM、亚分辨辅助PSM以及激光直写制作PSM的方法。
关键词：光学曝光 相移掩模 掩模制造 
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