靶制备

作品数：79被引量：230H指数：8
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钌粉提纯和钌靶制备的研究进展被引量：12
《贵金属》2019年第1期82-87,共6页邓瑞 闻明 陈家林 郭俊梅 杜怡霖 
国家重点研发计划项目(2017YFB0305503);云南省院所专项项目(2009CF003)
钌靶在电子信息行业中具有重要的应用价值,我国的钌靶制备技术与国外相比尚存在一定差距。综述了钌提纯中传统提纯工艺和新提纯工艺的特点。对比了热压(HP)、直接热压(DHP)和放电等离子烧结(SPS)等不同工艺加工所得钌靶的差异。分析了...
关键词：金属材料 钌 靶材 提纯 制备 溅射薄膜 
脉冲激光轰击固体靶制备纳米材料被引量：1
《化学通报》2007年第3期168-173,共6页陈前火 章文贡 黄灿湖 
国家自然科学基金(50272014);福建省自然科学基金重大项目(2001F005);福建省纳米重专项(2005HZ01-5);福建师范大学青年教师扶苗基金(F023)资助项目
综述了近年来脉冲激光轰击固体靶制备纳米材料。按介质种类和性质,脉冲激光轰击固体靶制备纳米材料的方法可分为六种:在气相、静态液相、动态液相三种惰性状态及其反应性状态下的反应。本文对以上六种制备方法及其优缺点作了较详细的阐...
关键词：脉冲激光沉积 固体靶 纳米材料 流动液相 
ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究被引量：3
《无机材料学报》2006年第4期1011-1017,共7页陈祝 张树人 杜善义 杨成韬 郑泽渔 李波 孙明霞 
利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10-15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2．2mol％,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工...
关键词：陶瓷靶 氧化锌薄膜 射频磁控溅射 择优取向 
U薄膜和U-A1微靶制备
《中国工程物理研究院科技年报》2004年第1期278-278,共1页吕学超 任大鹏 杜凯 谢军 郑凤成 
近年来，随着激光器功率的大幅度提高和性能完善，应用领域逐步扩大。U薄膜和U—A1微靶的制备是其应用需求之一。对于U薄膜的制备，考虑U是易氧化的材料，为克服PVD技术沉积U薄膜所带来的密度低、易氧化等不足，实验在现有设备的基础上...
关键词：U薄膜 靶制备 PVD技术 表面轮廓仪 抛光技术 大幅度 激光器 应用 
激光辐照丙酮溶液中固体靶制备纳米碳粉被引量：2
《材料研究学报》2003年第5期495-498,共4页陈岁元 刘常升 张雅静 才庆魁 
国家自然科学基金 No.59972004;教育部跨世纪人才基金
用激光液相法制备出纳米碳粉。脉冲激光辐射靶材表面生成碳的高能等离子体团,等离子体团与丙酮溶液中的液相体系发生能量交换形成了纳米碳颗粒。用团簇成核的经典理论分析了形成纳米碳颗粒的机理。制备出的纳米碳粉大部分呈球状,少部分...
关键词：无机非金属材料 纳米碳粉 脉冲激光 丙酮溶液 等离子团 
磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究被引量：2
《真空与低温》2003年第2期98-101,共4页常天海 
研究了磁控溅射陶瓷靶制备的氧化铟锡薄膜的微观结构和光电性能;给出了它的XPS、AFM分光光度计测试结果。结果表明:氧化铟锡膜内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85.0%左右;薄膜表面十分致密,呈多晶球状微粒均匀分布...
关键词：磁控溅射 陶瓷靶 氧化铟锡薄膜 XPS AFM 分光光度计 光电性能 微观结构 
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
《科技开发动态》2001年第8期44-45,共2页
关键词：对向异材磁控溅射靶制备 合金薄膜 工艺方法 
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