TMAH

作品数：58被引量：116H指数：6
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TMAH湿法腐蚀工艺制备微台面结构被引量：3
《微纳电子技术》2018年第7期526-531,共6页任霄峰 
针对目前四甲基氢氧化铵（TMAH）湿法腐蚀工艺制备微台面结构工艺可控性差、需要添加添加剂、溶液使用周期短及工艺维护繁琐、无法实现大尺寸晶圆工程化应用等问题,研究了无添加剂时,微台面的腐蚀形貌与TMAH溶液质量分数和循环速率之间...
关键词：四甲基氢氧化铵(TMAH) 湿法腐蚀 微台面结构 凸角 黑点 循环速率 不均匀性 
TMAH+Triton中Si湿法腐蚀机理研究现状被引量：2
《微纳电子技术》2014年第6期386-393,共8页姚明秋 苏伟 唐彬 王芳 
国家自然科学基金资助项目(51305412);中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室课题资助项目(2012CJMZZ00003)
在微机电系统(MEMS)领域硅各向异性湿法腐蚀是制作许多元器件的一项重要技术,加入非离子型表面活性剂的腐蚀液可以在硅基片上制作出各种形状,但是对于真正的腐蚀机理还有待进一步研究。介绍了硅湿法腐蚀机理的研究现状,通过不同腐蚀条...
关键词：各向异性湿法腐蚀 四甲基氢氧化铵(TMAH) TRITON X-100 表面活性剂吸附 腐蚀速率 
过硫酸铵在TMAH体硅刻蚀中的作用被引量：1
《微纳电子技术》2012年第2期134-139,共6页余协正 叶迎华 沈瑞琪 李创新 
为了提高低浓度下四甲基氢氧化铵(TMAH)体硅刻蚀的质量,通过对质量分数为5%的TMAH进行研究,发现合适的过硫酸铵(AP)添加方式和添加量能够在不降低刻蚀速率的条件下提高体硅刻蚀质量。通过SEM,EDS和XRD对AP的作用机理进行深入分析,发现加...
关键词：微电子机械系统(MEMS) 四甲基氢氧化铵(TMAH) 各向异性刻蚀 过硫酸铵(AP) 粗糙度 
TMAH单晶硅腐蚀特性研究被引量：13
《微纳电子技术》2003年第12期32-34,共3页邓俊泳 冯勇建 
TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现MEMS工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了TMAH的特...
关键词：四甲基氢氧化氧 TMAH 单晶硅 腐蚀特性 各向异性腐蚀 微机电系统 
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