谢振宇

作品数：14被引量：49H指数：5
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过孔刻蚀工艺优化对过孔尺寸减小的研究被引量：3
《液晶与显示》2014年第5期674-680,共7页李田生 陈旭 谢振宇 徐少颖 闵泰烨 张学智 
via hole minimize(No.10S_VHM)
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,之前做过钝化层沉积工艺优化来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔尺寸的研究.本文在此基础上进行过孔刻蚀工艺...
关键词：钝化层 刻蚀 过孔 
栅绝缘层过孔的反应离子刻蚀研究被引量：3
《真空科学与技术学报》2014年第3期278-281,共4页姜晓辉 田宗民 李田生 张家祥 王亮 沈奇雨 崔玉琳 侯学成 郭建 陈旭 谢振宇 闵泰烨 
为了适应薄膜晶体管液晶显示器窄边框化以及面板布线精细化的趋势,以及利用较少光刻次数生产出高品质的产品,本文研究了利用反应离子刻蚀栅绝缘层过孔。介绍了栅绝缘层过孔刻蚀的原理,通过实验以及测试研究与分析了刻蚀过刻量、刻蚀反...
关键词：栅绝缘层过孔 反应离子刻蚀 过刻量 气体比例 
栅极绝缘层和有源层沉积工艺的优化对TFT特性的影响研究被引量：4
《真空科学与技术学报》2014年第1期32-37,共6页田宗民 陈旭 张金中 张文余 谢振宇 郭建 姜晓辉 闵泰烨 
京东方研发基金项目(10D-HP-TFT)
通过对低速沉积的栅极绝缘层(GL层)和低速沉积的有源层(AL层)的薄膜沉积条件进行了优化,分析了沉积AL层的功率,间距等条件的变更对薄膜的沉积速率和均匀性的影响,解释这些工艺条件对I on的影响的本质,确定最佳的沉积AL层的沉积条件;调整...
关键词：栅极绝缘层 有源层 沉积条件优化 TFT特性 
栅极绝缘层和有源层沉积工艺的优化对TFT电学特性的改善
《液晶与显示》2013年第6期849-854,共6页田宗民 陈旭 谢振宇 张金中 张文余 崔子巍 郭建 闵泰烨 
京东方研发基金(No.10D_HP_TFT)
对低速沉积的栅极绝缘层和低速沉积的有源层的薄膜沉积条件进行了优化,设定4个实验条件,考察了不同条件下膜层的均匀性,TFT产品的开路电流(Ion)的整体分布规律以及均匀性,Ion的提升比例以及产品的阈值电压,确定条件二为最优条件。对比...
关键词：栅极绝缘层 有源层 沉积条件优化 电学特性 改善 
有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响被引量：3
《液晶与显示》2013年第5期720-725,共6页李田生 谢振宇 李婧 阎长江 徐少颖 陈旭 闵泰烨 
京东方研发基金(No.10S_VHM)
TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的 过孔发黑（黑点）问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源...
关键词：有源层 刻蚀 黑点 
SiN_x:H薄膜沉积条件变更对TFT特性的影响
《液晶与显示》2013年第4期547-551,共5页李婧 张金中 谢振宇 阎长江 陈旭 闵泰烨 
京东方研发基金(No.10D_HP_TFT)
利用等离子化学气相沉积法连续制备SiNx:H和a-Si:H薄膜。通过电学、光学、力学测试研究了SiNx:H薄膜沉积条件对其界面性能的影响。研究结果表明,过度的富硅化将显著增大体系的界面态,严重影响器件的TFT特性。当SiH4和NH3气体流量比值为7...
关键词：SINX H界面态 Si N 开关比 TFT特性 
栅极绝缘层工艺优化对氢化非晶硅TFT特性的改善被引量：6
《真空科学与技术学报》2012年第11期991-995,共5页张金中 张文余 谢振宇 陈旭 闵泰烨 
在TFT小型化趋势下,需要进一步提高氢化非晶硅薄膜晶体管的TFT特性,尤其是开态电流特性。本文结合生产实际,阐述了工艺上改善氢化非晶硅开态电流特性的方法,包括提高单位面积栅绝缘层电容和改善载流子迁移率。实验结果表明,降低高速沉...
关键词：栅极绝缘层 氢化非晶硅 界面处理 TFT特性 等离子增强化学气相沉积 
氮化硅在触摸屏中的应用分析(英文)被引量：2
《液晶与显示》2012年第4期466-471,共6页曲连杰 陈旭 郭建 闵泰烨 谢振宇 张文余 
研究了氮化硅材料在触摸屏领域中的应用,利用等离子体化学气相沉积技术,在一定厚度的玻璃表面沉积不同厚度的氮化硅薄膜。通过理论分析和试验测试的方法得到了氮化硅膜层厚度和折射率对触摸屏透过率以及表面宏观颜色的影响。分析结果表...
关键词：薄膜晶体管液晶显示器 触摸屏 透过率 氮化硅 
钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究被引量：4
《液晶与显示》2012年第4期493-498,共6页李田生 谢振宇 张文余 阎长江 徐少颖 陈旭 闵泰烨 苏顺康 
京东方研发基金(10SVHM)
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,研究了通过改变钝化层(PVX)的沉积工艺来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔(VIA)尺寸的方案,通过设计实验考察...
关键词：钝化层 刻蚀 过孔 
应用低介电材料丙烯酸酯树脂作为TFT-LCD的钝化层材料(英文)被引量：3
《液晶与显示》2011年第1期19-22,共4页周伟峰 薛建设 明星 刘翔 郭建 谢振宇 赵承潭 陈旭 闵泰烨 
将具有低介电常数的丙烯酸酯树脂作为薄膜晶体管液晶显示器的钝化层整合到阵列基板中。与传统的SiNx薄膜(ε≈7)相比,丙烯酸酯树脂钝化层具有平坦的表面,其低介电常数(ε≈4.5)可以降低器件的RC延迟,这都将有利于提高薄膜晶体管液晶显...
关键词：薄膜晶体管液晶显示器 低介电常数 丙烯酸酯树脂 钝化层 
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