何凯旋

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一种深腔内图形制作的光刻方法
《集成电路通讯》2014年第4期12-16,26,共6页王文婧 陈璞 何凯旋 王鹏 
针对半球陀螺在研制流片时遇到的深腔内光刻难题，在现有条件下开展了深腔内光刻工艺实验。实验中将曝光间隙类比深腔深度，利用现有条件开展一系列实验。最终得出：在400～600μm曝光间隙内，采用现有光刻机进行深腔光刻工艺制作时，...
关键词：深腔光刻 曝光量 曝光间隙 半球陀螺 
SOI高线性度压力传感器设计与分析
《集成电路通讯》2013年第4期1-5,共5页汪祖民 郭群英 徐栋 王鹏 何凯旋 熊爱武 
使用SOI硅片材料，采用选择性自停止腐蚀工艺，设计了一种具有高线性度的压力传感器。该压力传感器包括压力敏感膜及其上的四个压敏电阻，压敏电阻通过离子注入扩散布局在压力敏感膜的四边中间位置，通过对压敏电阻的长、宽、结深和在...
关键词：线性度 SOI 压力传感器 U型压敏电阻 
“三明治”MEMS加速度计的设计与分析被引量：1
《集成电路通讯》2013年第2期1-10,共10页王鹏 徐栋 何凯旋 王文婧 陈博 陈璞 黄斌 
基于体硅微机械加工技术，设计分析了一种抗冲击“三明治”电容式MEMS加速度计。利用敏感质量块与固定电极构成电容差分结构，在有效提高加速度计灵敏度的同时，减小了寄生电容的干扰，提高了加速度计的测量精度，并对悬臂梁的抗冲击性...
关键词：电容加速度计 “三明治”结构 抗冲击 灵敏度 
硅-硅直接键合技术及其在三明治电容加速度计中的应用
《集成电路通讯》2013年第1期1-8,共8页何凯旋 陈博 王文婧 王鹏 陈璞 黄斌 郭群英 
硅硅直接键合技术在MEMS工艺中占有极其重要的地位，特别在高精度加速度计、陀螺等复杂三维结构的实现，以及晶圆级真空封装方面都有重要应用。通过大量工艺实验，获得的最佳的键合工艺流程，可使4英寸硅片键合面积达98％。将硅硅直接...
关键词：MEMS 硅硅直接键合 三明治电容加速度计 
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