朱樟震

作品数：3被引量：3H指数：1
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供职机构：中国科学院高能物理研究所更多>>
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同步辐射x射线光刻实验研究被引量：1
《半导体技术》1997年第6期45-46,共2页谢常青 陈梦真 赵玲莉 孙宝银 韩敬东 朱樟震 张菊芳 
攀登计划PD930307资助项目
采用侧墙工艺技术研制深亚微米ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射ｘ射线曝光实验。
关键词：同步辐射 X射线光刻 X射线掩模 侧墙工艺 
同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究被引量：3
《科学通报》1995年第21期2010-2012,共3页谢常青 陈梦真 王玉玲 孙宝银 周生辉 朱樟震 
国家"攀登"计划资助项目
同步辐射X射线光刻自从被提出来以后,就日益引起了许多人的注意.它具有许多优点,比如高分辨率、大的工艺宽容度、高产量等,被普遍认为是一种很好的可应用于0.25μm以下的光刻技术.鉴于同步辐射X射线光刻技术在未来的光刻技术中所占的重...
关键词：同步辐射 X射线光刻 光刻胶 显影模型 光刻 
X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用
《真空科学与技术》1995年第3期176-178,共3页孙宝银 陈梦真 朱樟震 伊福廷 
阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上，采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30～40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。
关键词：镂空硅掩模 X射线 深层光刻 同步辐射 
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