邵淑敏

作品数：7被引量：9H指数：2
导出分析报告
供职机构：南开大学信息技术科学学院更多>>
发文主题：镧金刚石薄膜分子束甲烷HFCVD更多>>
发文领域：理学电子电信交通运输工程一般工业技术更多>>
发文期刊：《物理化学学报》《计算机工程》《Chinese Journal of Chemical Physics》《南开大学学报（自然科学版）》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-7
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
汽车通信协议数据流的采集研究被引量：4
《计算机工程》2001年第2期169-170,183,共3页王新盛 李胜林 邵淑敏 
介绍如何通过串行通信口获取汽车电脑ECU中故障信息数据流、美国汽车标准串行通信协议ISO9141、汽车故障码检测标准OBDII，以及如何应用程序方式采集数据信息，有助于从协议层次上对汽车故障信息的研究。
关键词：汽车 通信协议 数据流采集 电子控制单元 
WC和Si衬底生长金刚石薄膜的研究
《真空科学与技术》1999年第A10期65-71,共7页邵淑敏 彭华军 
采用ＳＥＭ，Ｒａｍａｎ光谱等手段，较全面系统地研究了ＨＦＣＶＤ法在ＷＣ和Ｓｉ衬底上生长金刚石薄膜时，衬底预处理、碳源深度、热丝及衬底温度等对金刚石形核、生长的影响。并对两种衬底进行了对比与分析，最后总结出影响金刚石形...
关键词：碳化钨衬底 硅衬底 金刚石薄膜 金刚石生长 
影响金刚石薄膜生长因素的研究被引量：3
《真空》1998年第4期17-22,共6页邵淑敏 吕向英 于剑 丁乐礼 席光康 张猛 周志强 李胜林 彭华军 邵牟舟 
本文用ＨＦＣＶＤ法对在硬质合金衬底上生长金刚石薄膜的诸多影响因素，如衬底的预处理、碳源浓度和热丝及衬底温度等进行了系统地研究并最终找出在该衬底上生长金刚石薄膜的最佳生长条件。
关键词：硬质合金衬底 金刚石 薄膜生长 HFCVD 
镧薄膜表面的激活化学吸附研究
《真空科学与技术》1995年第1期23-30,共8页邵淑敏 王倩 宋健平 李胜林 周志强 席光康 
国家自然科学基金
用俄歇谱及分子束技术就地与非就地研究了蒸发稀土金属镧薄膜的表面特性。一种情况是在镀膜机内制作镧薄膜，从镀膜机中取出，暴露在大气中，然后放入超高真空室内进行研究。另一种情况是La薄膜在超高真空室内制备并就地研究。结果表明...
关键词：镧薄膜 薄膜表面 俄歇谱 激活化学吸附 
非常态分子CH_4在稀土La薄膜不同表面温度下的激活化学吸附
《南开大学学报（自然科学版）》1994年第3期60-66,共7页邵淑敏 杨学柱 李胜林 周志强 席光康 
国家自然科学基金
本文用分子束改变平动能的方法，研究了非常态分子ＣＨ４在处于不同表面温度下的稀土Ｌａ薄膜上的激活化学吸附。实验结果表明，当非常态分子的平动能在１０．１～６４．０ｋＪ／ｍｏｌ（对应的垂直分量在７．５～４８．１ｋＪ／ｍｏｌ...
关键词：激活化学吸附 甲烷 镧 薄膜 
分子束——表面散射装置被引量：2
《Chinese Journal of Chemical Physics》1992年第5期405-411,共7页席光康 邵淑敏 贺添喜 李胜林 王君容 王敬武 周志强 
分子束—表面散射技术是研究气体—表面相互作用动力学的有力工具.它的主要突破在于从分子(原子)量度来揭示诸如催化、腐蚀、吸附,脱附和能量适应等宏观的气体—表面作用过程.它同时也是一种表面分析的工具. 本文概述了本实验室研制的...
关键词：分子束 表面散射 表面分析 
甲烷在Ni表面及La薄膜上激活解离化学吸附
《物理化学学报》1992年第6期767-771,共5页邵淑敏 席光康 王君容 李胜林 杨学柱 王金合 周志强 贺添喜 于宝霞 
国家自然科学基金
利用分子束技术改变甲烷的平动能E_k来研究E_k及其法向分量E_n对甲烷在Ni表面及La薄膜上激活解离吸附的影响。对CH_4/Ni及CH_4/La系统,当甲烷的平动能E_k分别低于58.5kJ·mol^(-1)及52.3kJ·mol^(-1)时,没观察到甲烷的解离吸附。当甲烷...
关键词：甲烷 镍 镧 激活 化学吸附 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部