骆苏华

作品数:7被引量:10H指数:2
导出分析报告
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文主题:CUTINI射频电路相变潜热更多>>
发文领域:电子电信一般工业技术金属学及工艺理学更多>>
发文期刊:《微电子学》《固体电子学研究与进展》《Journal of Semiconductors》《材料科学与工程学报》更多>>
所获基金:国家重点基础研究发展计划江苏省教育厅指导性计划项目更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-7
视图:
排序:
不同材料上共面波导线的损耗研究
《固体电子学研究与进展》2006年第3期321-324,共4页单伟国 骆苏华 杨中海 李凌云 孙晓玮 
中科院重大项目;上海市重大项目资助(批准号:021111122)
研究不同衬底材料上共面波导(CPW)线的损耗特性。实验结果表明,采用低阻SOI(20Ω·cm)作衬底制作的共面波导线的损耗比在低阻硅(20Ω·cm)上制作的有明显减少;而采用低阻硅,并沉积1μmSiO2作衬底的CPW线损耗大大降低。采用高阻SOI(1000...
关键词:共面波导 传输线 绝缘体上硅 地屏蔽 
改进型Ge浓缩技术制备SGOI及其机理被引量:1
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期252-256,共5页张苗 狄增峰 刘卫丽 骆苏华 宋志棠 朱剑豪 林成鲁 
对Ge浓缩技术进行改进,通过对Si/SiGe/Si三明治结构氧化退火,成功制备了Ge含量高达18%的SGOI材料.实验结果表明:顶层的Si可以有效抑制SiGe层氧化初期Ge元素的损失,退火过程有助于Ge元素在SiGe层中的均匀分布,同时也减轻了Ge元素在氧化...
关键词:SiGe-on-insulator 氧化 扩散 
脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性
《材料科学与工程学报》2005年第1期45-47,共3页李亚东 骆苏华 高伟健 
江苏省教育厅指导性项目 (0 1KJD430 0 0 1 1 )
采用脉冲激光沉积 (PLD)技术制备了Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜。研究表明 ,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片 靶间距 )、激光脉冲频率有较大关系。当沉积距离 (D)为 2 0~ 30mm时 ,可获得成分均匀稳定的合金薄膜 ;当其它条件相同 ,激光...
关键词:PLD技术 Ti50Ni36Cut14 合金薄膜 成分均匀性 
SOI在射频电路中的应用被引量:2
《微电子学》2005年第1期67-70,共4页骆苏华 刘卫丽 张苗 狄增峰 王石冶 宋志棠 孙晓玮 林成鲁 
上海市纳米技术专项资助项目(052nm084)国家重点基础研究发展计划资助项目(G2000036506)国家自然科学基金资助项目(90101012)
随着射频电路(RF)工作频率和集成度的提高,衬底材料对电路性能的影响越来越大。 SOI(Silicon-on-Insulator)结构以其良好的电学性能,为系统设计提供了灵活性。与CMOS工艺的 兼容使它能将数字电路与模拟电路混合,在射频电路应用方面显示...
关键词:射频集成电路 高阻SOI FD-SOI CMOS SIMOX 
热处理工艺和热循环次数对Ti_(50)Ni_(40)Cu_(10) 合金相变规律的影响(英文)被引量:1
《有色金属》2003年第3期5-9,共5页骆苏华 李亚东 
制备Ti50 Ni4 0 Cu1 0 合金 ,并采用示差扫描量热仪 (DSC)系统分析Ti50 Ni4 0 Cu1 0 合金在不同热处理条件下 ,马氏体相变规律与相变热循环间的关系。结果表明 ,马氏体相变潜热ΔHB2→B1 9和逆马氏体相变潜热ΔHB1 9→B2 随固溶温度的...
关键词:Ti50Ni40Cu10合金 热处理工艺 热循环次数 马氏体相变 相变潜热 相变热滞 
Ti_(50)Ni_(40)Cu_(10)合金的相变潜热及相变热滞被引量:3
《材料科学与工程》2003年第1期83-86,共4页骆苏华 李亚东 
本文采用示差扫描量热仪 (DSC)系统分析了Ti50 Ni40 Cu1 0 (at.%)合金的马氏体相变潜热 (ΔHB2→B1 9)和逆马氏体相变潜热 (ΔHB1 9→B2 )、相变热滞 (ΔT)与固溶温度、退火温度和相变热循环间的关系。结果表明 :相变潜热随着固溶化温...
关键词:Ti50Ni40Cu10合金 相变潜热 相变热滞 热处理工艺 相变热循环 钛镍铜合金 形状记忆合金 
RF磁控溅射工艺对TiNi_(1-x)Cu_x合金薄膜组织形貌的影响被引量:3
《材料科学与工艺》2002年第3期295-298,共4页李亚东 崔大奎 骆苏华 
采用RF磁控溅射技术制备了TiNi(1-x)Cux合金薄膜,利用扫描电镜、电子能谱仪和XRD技术分析研究了RF磁控溅射工艺对TiNi(1-x)Cux合金薄膜组织形貌的影响规律.结果表明:在基片不加热的条件下溅射薄膜组织结构为非晶,并呈柱状形貌垂直于基...
关键词:RF磁控溅射工艺 TiNi(1-x)Cux合金薄膜 组织形貌 钛镍铜合金 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部