纠智先

作品数:7被引量:16H指数:2
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供职机构:武汉工业学院数理科学系更多>>
发文主题:脉冲激光沉积ZNS薄膜等离子体射频ZNS更多>>
发文领域:理学电子电信机械工程文化科学更多>>
发文期刊:《激光技术》《微纳电子技术》更多>>
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显微镜放大照像识别微小长度被引量:2
《武汉工业学院学报》2011年第2期112-114,共3页纠智先 赵斌 徐滔滔 
通过显微镜将物体待测量进行充分放大,由数码相机对清晰的成像进行拍照。利用光栅作为显微镜下的测量标尺,其光栅常数为1.667μm,同样拍摄照片。将拍摄的图像输入计算机内,利用画图工具将其无损打开,可以获得标尺每单位所占的像素点数...
关键词:显微镜 数码相机 光栅 微小长度测量 
退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响被引量:1
《武汉工业学院学报》2008年第4期113-115,共3页纠智先 李强 孙金战 
利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明:退火处理更有利于ZnS薄膜的发光。
关键词:脉冲激光沉积 ZNS薄膜 退火 
沉积温度对制备ZnS薄膜的影响被引量:5
《武汉工业学院学报》2008年第2期90-92,共3页纠智先 李强 
采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了在不同沉积温度下对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明:沉积温...
关键词:脉冲激光沉积 ZNS薄膜 沉积温度 射频 
脉冲激光能量密度对ZnS薄膜的影响
《武汉工业学院学报》2007年第2期104-106,共3页纠智先 
采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用脉冲激光沉积技术,研究了不同的脉冲激光能量密度和不同波长的激光器对制备的ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征...
关键词:脉冲激光沉积 薄膜 ZNS 等离子体 
射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点
《武汉工业学院学报》2006年第3期109-111,共3页纠智先 李强 
介绍了脉冲激光沉积(PLD)制备薄膜的原理,讨论了射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点,通过分析比较证实了射频辅助脉冲激光沉积比无射频辅助脉冲激光沉积具有更突出的优点。
关键词:脉冲激光沉积 薄膜 射频 等离子体 
非晶碳/Mo_2C混合膜冷阴极FED发光显示
《微纳电子技术》2006年第4期194-196,共3页王朝勇 姚宁 张兵临 纠智先 邓记才 袁泽明 
教育部科学技术重点资助项目(205091)
对Al2O3陶瓷衬底进行粒度为W20的金刚砂机械抛光,采用磁控溅射方法镀过渡层Mo,对其表面进行Nd∶YAG激光刻蚀处理。最后在微波等离子体增强化学汽相沉积(MPCVD)反应腔中在一定条件下沉积了薄膜,反应气体为CH4和H2。从样品的Raman谱可以...
关键词:场发射 微波等离子体化学汽相沉积 非晶碳 碳化钼 
ZnS薄膜脉冲激光沉积及其发光特性被引量:9
《激光技术》2004年第6期620-624,共5页纠智先 张兵临 姚宁 
综述了ZnS的发光机制 ,脉冲激光沉积 (PLD)制备薄膜的原理、特点 ,分析了在用PLD制备ZnS过程中各主要沉积条件对成膜质量的影响 ,展望了ZnS薄膜的应用前景。
关键词:脉冲激光沉积 ZNS薄膜 等离子体 纳米材料 
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