乔泳彭

作品数:6被引量:10H指数:1
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供职机构:西安理工大学更多>>
发文主题:力学性能微观结构参量TI纳米晶薄膜更多>>
发文领域:一般工业技术金属学及工艺电气工程电子电信更多>>
发文期刊:《人工晶体学报》《西安理工大学学报》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
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基于脉宽参量的TiN纳米晶薄膜制备及其性能?
《稀有金属材料与工程》2019年第3期916-922,共7页乔泳彭 蒋百灵 丁郁航 张静 
国家自然科学基金(52171144)
采用大功率脉冲溅射离子镀技术在不同脉宽条件下制备了一组TiN离子镀层,并通过XRD、SEM、AFM等手段对膜层的微观形貌、生长模式及相关力学性能进行了分析研究。结果表明:随着脉宽的增大,TiN膜层的瞬时沉积速率提高,膜层内部的晶化程度...
关键词:脉宽参量 TIN薄膜 纳米晶 微观结构 力学性能 
脉冲持续时间对Ti纳米晶薄膜结构及性能的影响
《稀有金属材料与工程》2018年第5期1596-1600,共5页乔泳彭 蒋百灵 曹政 张冰 
国家自然科学基金(52171144)
采用大功率脉冲离子镀技术,通过调控单脉冲持续时间的方式,对所制备的纯金属细晶粒Ti薄膜的微观结构以及相关力学性能进行了对比研究。结果表明:在较小平均电流条件下,通过调控单脉冲持续时间T_(on)(占空比)可以获得较大峰值电流,并对...
关键词:脉冲持续时间 Ti纳米晶薄膜 微观结构 力学性能 
电场强度对Ti纳米晶薄膜生长模式及性能的影响
《稀有金属材料与工程》2017年第11期3428-3432,共5页乔泳彭 蒋百灵 曹政 李洪涛 刘燕婕 
国家自然科学基金(52171144)
采用强脉冲电场条件下物理气相沉积的方法,通过大幅提高脉冲峰值电流的方式,获得晶粒尺寸细小的Ti纳米晶薄膜,并依次对薄膜的生长模式及相关性能进行了对比研究。结果表明:较大的峰值电流可以获得晶粒尺寸细小的Ti纳米晶薄膜,但峰值电...
关键词:脉冲电场 峰值电流 Ti纳米晶薄膜 生长模式 力学性能 
Ar气流量对磁控溅射制备微晶硅薄膜微观结构及光/电学性能的影响
《人工晶体学报》2015年第2期361-367,共7页乔泳彭 蒋百灵 
国家自然科学基金(51272158)
采用射频磁控溅射法在不同Ar气流量条件下制备了多组微晶硅薄膜,研究了Ar气流量对薄膜微观结构及光/电学性能的影响。结果表明:当Ar气流量的较小时,微晶硅薄膜的沉积速率较高,薄膜的晶化率、晶粒尺寸以及粗糙度处于较好的生长态势。同时...
关键词:射频磁控溅射 Ar气流量 微晶硅薄膜 
H_2流量对直流磁控溅射制备a-Si∶H薄膜微观结构及光学性能的影响被引量:2
《人工晶体学报》2013年第11期2280-2287,共8页乔泳彭 蒋百灵 鲁媛媛 牛毅 张岩 
国家自然科学基金(51271144)
采用直流磁控溅射法在不同H2流量的条件下制备了a-Si∶H薄膜,研究了H2流量对薄膜微观结构以及光学性能的影响。结果表明:随H2流量的增加,a-Si∶H薄膜的沉积速率有所下降,但其原子排列的有序度上升,并出现了细小的纳米晶粒,使得薄膜的无...
关键词:直流磁控溅射 H 流量 A-SI H薄膜 光学性能 
偏压对磁控溅射纯Cr镀层组织形貌及耐腐蚀性能的影响被引量:8
《西安理工大学学报》2009年第2期141-145,共5页李洪涛 蒋百灵 曹政 陈雪 乔泳彭 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2005AA33H010)
基于磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于单晶硅和45钢基体上制备了纯Cr镀层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和CH1660B电化学工作站(极化曲线)分析了纯Cr镀层表面、截面微观形貌和择优生长取向的变化规律,并考察了纯Cr镀层的耐腐蚀性...
关键词:偏压 磁控溅射 纯Cr镀层 组织形貌 耐腐蚀性能 
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