高飞

作品数:4被引量:10H指数:2
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供职机构:中国电子科技集团公司更多>>
发文主题:单晶片晶片氧化镓粘接化学机械抛光更多>>
发文领域:电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺理学更多>>
发文期刊:《半导体技术》《网络安全技术与应用》《微纳电子技术》《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》更多>>
所获基金:天津市科技计划更多>>
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人工智能赋能网络攻击的安全威胁及应对策略被引量:2
《网络安全技术与应用》2022年第4期18-19,共2页高飞 闫征 
人工智能技术是当前社会发展中应用的重要技术,对当前社会的发展有非常重要的作用,在当前社会发展的各个领域都有重要应用。而在人工智能赋能同时也造成了一定的网络攻击,影响到了网络安全。所以,在当前人工智能技术的研究过程中,应该...
关键词:人工智能 赋能网络攻击 安全威胁 应对策略 
GaN单晶片的表面加工工艺研究被引量:3
《半导体技术》2018年第12期918-922,948,共6页李晖 高飞 徐世海 张嵩 徐永宽 程红娟 
国家重点研发计划资助项目(2017YFB0404200);天津市科技计划资助项目(17ZXCLGX00020,17YFZCGX00520)
对硬脆材料氮化镓(GaN)单晶的机械研磨和化学机械抛光(CMP)加工工艺进行了研究。在机械研磨工艺中,研究了不同材料的研磨盘和不同粒径的磨料对GaN研磨时间的影响。实验结果表明,采用树脂铜盘和树脂锡盘将机械研磨时间缩短至1.5h,加工后...
关键词:氮化镓(GaN) 机械研磨 化学机械抛光(CMP) 表面粗糙度 抛光速率 
基于多处理器虚拟化的云计算应用的安全研究
《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》2017年第12期00304-00304,共1页高飞 
当前,在云计算中其应用的安全性主要是依靠在虚拟机的监控器中增加软件层实现的,但是这样的保护技术在云计算比较密集的情况下进行应用,就会降低云计算的执行效率。并且,其作为一种单一的保护模块,若有故障发生,就会严重影响云计算应用...
关键词:多处理器 虚拟化 云计算应用 安全 
β-Ga_2O_3(100)面的CMP研究及优化被引量:5
《微纳电子技术》2017年第3期208-212,共5页徐世海 李晖 高飞 练小正 朱磊 陈阳 
主要研究了Czochralski法生长的β-Ga_2O_3单晶片的化学机械抛光(CMP)。采用酸性硅溶胶溶液作为抛光液,对经过切割、机械抛光后的10 mm×10 mmβ-Ga_2O_3单晶片进行了CMP实验。通过金相显微镜观察到4 h的抛光过程中,单晶片表面逐渐平坦...
关键词:氧化镓 化学机械抛光(CMP) 抛光液 平坦化 硅溶胶 
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