电压衬度

作品数：14被引量：18H指数：3
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基于SEM电压衬度的缺陷定位方法研究被引量：1
《微电子学》2021年第4期608-612,共5页陈选龙 石高明 郑林挺 黎恩良 刘丽媛 徐小薇 林晓玲 
广州市科技计划项目(201907010041)。
光发射显微分析、光致电阻变化技术两种电失效定位方法在精确定位缺陷上存在局限性,为此提出了基于SEM电压衬度的联用方法用于精确定位集成电路缺陷。首先根据电特性测试进行光发射显微分析或者光致电阻变化分析,结合电路原理和版图,提...
关键词：集成电路缺陷 物理失效分析 电压衬度像 光发射显微镜 热激光激发 
集成电路失效定位技术现状和发展趋势被引量：5
《半导体技术》2020年第5期329-337,370,共10页陈选龙 王有亮 方建明 林晓玲 倪毅强 
广东省重点领域研发计划资助项目(2019B010128002);工业和信息化部质量可靠性设计分析技术突破重点项目(TC190A4DA/6)。
集成电路(IC)失效分析包含了不同的分析流程,但所有的步骤都是以失效定位和故障隔离作为第一步工作。失效定位指的是不断地缩小半导体器件故障范围直至可以进行破坏性物理分析的过程。根据IC的结构特点和分析思路,将整个失效分析流程中...
关键词：集成电路(IC)失效定位 物理失效分析 电压衬度 光发射显微镜 热激光激发 
电子束吸收电流表征方法在芯片失效分析中的应用被引量：1
《半导体技术》2020年第3期244-248,共5页虞勤琴 庞凌华 于会生 
随着集成电路芯片关键尺寸和金属连线线宽越来越小,传统的失效点定位方法,如微光显微镜或光束诱导电阻变化等,由于分辨率的限制不能精确地定位故障点。电压衬度分析方法虽然在一些开路、短路失效分析中能快速地定位失效点,但是其局限于...
关键词：电子束吸收电流(EBAC) 失效分析 芯片 电压衬度 微光显微镜 
基于栅氧化层损伤EEPROM的失效分析被引量：3
《半导体技术》2020年第1期72-76,共5页赵扬 陈燕宁 单书珊 赵明敏 
国家电网公司科技项目(GYB17201700325)
随着超大规模集成(VLSI)电路的发展,芯片结构及工艺变得日益复杂,同时给失效分析工作带来了挑战。内嵌式存储器作为片上系统(SOC)内部模块的重要组成部分,其具有结构复杂、密度高等特点,常规的失效分析手段难以准确定位其失效模式和机...
关键词：电可擦可编程只读存储器(EEPROM) 失效分析 电压衬度(VC) 聚焦离子束(FIB) 栅氧化层 缺陷 
28 nm技术节点微小多晶硅桥连缺陷检测与改进方法的研究
《集成电路应用》2019年第5期23-26,共4页范荣伟 倪棋梁 陈宏璘 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1500204)
针对28 nm技术节点产品上多晶硅微小桥连缺陷,应用电压衬度与光学检测系统,探索了缺陷检测方法的开发流程,建立了缺陷监控指标,并据此评估了缺陷的改善方案。对缺陷检测方法开发流程进行了创新:通过电压衬度系统进行精确扫描,检测出的...
关键词：电压衬度 电子束扫描 28nm 缺陷检测 流程开发 光刻工艺 干刻工艺 
电压衬度方法检测先进制程中极微小物理缺陷的研究
《集成电路应用》2019年第5期27-29,共3页倪棋梁 范荣伟 陈宏璘 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1500204)
针对STI表面极微小氧化物残留缺陷,探索了应用电压衬度检测缺陷的方法,建立了缺陷监控指标,并据此评估了缺陷的改善方案。对缺陷检测方法进行了机理分析:通过调整电荷的积累与释放速率,增强缺陷的形貌衬度信号。根据实验结果,进一步推...
关键词：电压衬度 电子束扫描 28nm 缺陷检测 形貌衬度 化学机械研磨 
电压衬度在CMOS集成电路失效分析中的应用被引量：2
《集成电路应用》2017年第5期64-67,共4页马香柏 
电压衬度(Voltage Contrast,VC)是CMOS集成电路失效分析的一种有效方法。电压衬度主要利用二次电子的发射效率与样品表面电势相关的原理。通过数据分析、电学测试等流程缩小搜索范围,再利用电压衬度原理进一步缩小范围,通过FIB精准定位...
关键词：电压衬度 二次电子 失效分析 
运用精确电压衬度像技术实现精确定位的原位电子束纳米刻蚀：制造具有悬挂纳米线结构的纳米器件
《电子显微学报》2010年第3期213-218,共6页周维列 LIM Jin-Hee WILEY John B 
美国国家自然科学基金会(No.NSF-0403673);美国国防部高级研究计划局(No.HR0011-07-1-0032);路易斯安那州基金管理会[LEQSF(2007-12)-ENH-PKSFI-PRS-04 and LEQSF(2008-11)-RD-B-10]的资助
本文演示了运用精确电压衬度像技术实现原位电子束纳米刻蚀技术的精确定位,并运用该技术制作成具有悬挂结构的纳米开关。通过运用精确电压衬度像定位技术,能够很好地控制偏转电极的定位,误差可减少到大约10nm。通过该技术,不用通过任何...
关键词：原位电子束纳米刻蚀 扫描电子显微镜 纳米器件 纳米线 
时序逻辑电路失效分析被引量：4
《半导体技术》2009年第10期974-977,共4页龚欣 王旭 
利用液晶热点定位和电压衬度像等技术手段,准确定位了一时序逻辑电路的失效部位,结合电路原理分析以及芯片版图,详细解释了器件失效模式与失效现象的关系,并对其失效原因进行了实验验证。结果显示,电压衬度技术可以直观地显示逻辑电路...
关键词：时序逻辑电路 失效分析 电压衬度像 电势竞争 
电压衬度像技术在IC失效分析中的应用被引量：3
《半导体技术》2008年第7期581-584,共4页陈琳 汪辉 
电压衬度像(PVC)技术是用于定位集成电路不可见缺陷的一种有效的失效分析方法,结合聚焦离子束(FIB)精准的微切割技术,可将PVC技术应用于长金属互连线的缺陷定位。主要介绍了PVC技术及其原理,概述了如何在SEM和FIB中应用其工作原理有效...
关键词：电压衬度像 扫描电子显微镜 聚焦离子束 失效分析 
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