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作品数：303被引量：33H指数：4
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应用材料的光刻方案:图形vs．印制
《集成电路应用》2007年第6期32-32,共1页Aaron Hand 
虽然应用材料公司（Applied Materials）并不以光刻而闻名．但它还是想提醒大家：光刻不是只有印制（printing）。正如应用材料公司的薄膜事业群总经理Farhad Moghadam在SPIE的先进光刻会议的新闻发布午宴上所概述的那样，光刻领域已经...
关键词：应用材料公司 图形转移 光刻胶 印制 可制造性设计 新闻发布 SPIE 
光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道
《集成电路应用》2006年第7期28-28,共1页Aaron Hand 
在不久前召开的SPIE Microlithography（国际光学工程学会微光刻技术年度会议）上，BACUS（国际光掩膜技术学会）组织了一次圆桌会议，来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议...
关键词：微光刻技术 掩膜技术 浸没式 国际光学工程学会 厂商 圆桌会议 SPIE 发展趋势 膜工艺 制造商 
高折射率镜头推动浸没式光刻跨越32纳米被引量：2
《集成电路应用》2006年第6期15-15,共1页Aaron Hand 
在今年的SPIE Microlithography年会上，与会的专家们一如既往地针对如何延伸光学光刻技术使用寿命的问题进行了大量的研讨。而与往年会议不同的是，尽管有人心存疑虑，但今年的会议仍然对双重曝光技术打开了友善之门。关于这项技术，...
关键词：光学光刻技术 32纳米 高折射率 浸没式 跨越 镜头 SPIE 使用寿命 曝光技术 生产工艺 
缺陷问题驱动浸没光刻技术发展被引量：1
《集成电路应用》2006年第6期16-16,共1页Laura Peters 
虽然现在推测浸没光刻技术的量产时间还太早，但是许多公司正在努力确定生产线何时能从干法工艺跃为湿法工艺。根据最近在San Jose举办的SPIE Microlithography会议的迹象来看，工程师们正在迅速克服开发和生产之间存在的各种难题。在...
关键词：光刻技术 浸没 缺陷 问题驱动 300MM晶圆 干法工艺 SPIE TSMC 生产线 湿法工艺 
先进光刻技术大步向前被引量：2
《集成电路应用》2006年第5期22-22,共1页Aaron Hand 
正如半导体国际杂志上所说的那样，在今年的SPIE Microlithography会议上，光刻领域的技术专家们共聚一堂并发表了他们的最新研究成果。毫无疑问本次会议将会产生更多的新闻和技术热点，而近来公布的一些关于前沿浸没式光刻技术和极紫...
关键词：极紫外光刻技术 研究成果 SPIE 技术专家 技术热点 半导体 浸没式 会议 新闻 
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