李兆泽

作品数：4被引量：50H指数：4
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供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题：MEMS微推进器掩模光源光刻机更多>>
发文领域：电子电信机械工程金属学及工艺理学更多>>
发文期刊：《传感技术学报》《中国机械工程》《光学学报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金中国人民解放军总装备部预研基金国防科技技术预先研究基金更多>>
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基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法被引量：10
《光学学报》2014年第9期122-131,共10页李兆泽 李思坤 王向朝 
国家自然科学基金(61275207;61205102)
随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估...
关键词：光学制造 光刻 光源与掩模联合优化 分辨率增强技术 工艺窗口 
磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响被引量：12
《中国机械工程》2008年第21期2532-2535,共4页李兆泽 李圣怡 戴一帆 彭小强 
国家自然科学基金资助项目(50375156)
介绍了磨料射流抛光的工作原理,并从试验出发,针对射流抛光技术的主要工艺参数(入射角度、射流速度、入射距离、抛光液浓度和工作时间等)对抛光特性的影响进行了试验研究。分析了各工艺参数与抛光效率和抛光点形貌的影响关系,从而获得...
关键词：磨料射流 抛光 去除率 表面粗糙度 
Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究被引量：9
《传感技术学报》2006年第05A期1437-1440,共4页李兆泽 徐超 吴学忠 万红 李圣怡 
国家自然基金项目资助(50375154)
通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.
关键词：PVD 薄膜 湿法刻蚀 台阶仪 扫描电镜 原子力显微镜 
MEMS固体微推进器中Cr薄膜点火电阻的研究被引量：22
《传感技术学报》2006年第05A期1411-1414,1418,共5页徐超 李兆泽 万红 吴学忠 
点火电路是MEMS固体化学微推进器中最重要的组成部分,其点火电压的大小及点火可靠性则主要取决于点火电阻.国内外均采用多晶硅(polysilicon)或贵金属铂(Pt)作为点火电阻材料,所制备出来的点火电阻的阻值都比较大,需要的点火电压较高(40...
关键词：MEMS 微推进器 点火电阻 铬薄膜 点火电压 
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