武旭辉

作品数:4被引量:25H指数:3
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发文期刊:《材料研究学报》《半导体技术》《物理学报》《Journal of Semiconductors》更多>>
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纳米硅薄膜的生长动力学与计算机模拟被引量:7
《物理学报》1996年第4期655-660,共6页林鸿溢 武旭辉 何宇亮 褚一鸣 
国家自然科学基金资助的课题.
氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜由于其具有奇异的结构和独特的性质,而引起广泛的关注.本文在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中,以高纯H_2高度稀释SiH_4为反应气体源,在射频和直流双重功率源的激励下制备成功具有纳米结构的nc-Si:H薄膜....
关键词:纳米  薄膜 生长动力学 
纳米Si薄膜的结构及压阻效应被引量:8
《材料研究学报》1996年第1期33-38,共6页何宇亮 林鸿溢 武旭辉 余明斌 于晓梅 王珩 李冲 
国家自然科学基金
使用HREM及STM技术检测了纳米Si薄膜的微结构纳米Si薄膜由大量的细微Si晶粒以及大量的晶粒间界面区组成.这一特殊的结构造成纳米Si薄膜具有较大的压阻效应及较高氢含量.本文分析讨论了薄膜微结构对其压阻效应的作用。
关键词:压阻效应 微结构 简支梁法 硅薄膜 纳米硅薄膜 
纳米硅薄膜分形凝聚模型被引量:11
《Journal of Semiconductors》1995年第8期567-573,共7页林鸿溢 余卫武 武旭辉 何宇亮 
国家自然科学基金
从分析纳米硅(nc-Si:H)薄膜生长过程的特点出发,提出与扩散限制凝聚(DLA)模型不同的nc-Si:H薄膜分形凝聚模型:扩散与反应限制凝聚(DRLA)模型.获得的结果与实验结果符合得很好.nc-Si:H薄膜是利用...
关键词:纳米硅薄膜 分形凝聚模型 半导体薄膜 薄膜 
纳米硅薄膜的特点及其制备技术被引量:2
《半导体技术》1995年第5期54-56,共3页林鸿溢 武旭辉 
国家自然科学基金
作为一项新的半导体薄膜技术,阐明了纳米硅薄膜的若干重要特点;着重讨论了利用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)技术制备纳米硅薄膜的试验参数选择。
关键词:半导体薄膜 纳米硅薄膜 等离子体增强化学气相淀积 
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