周狄

作品数：14被引量：25H指数：3
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供职机构：上海交通大学更多>>
发文主题：电磁型浮空器微电机微机电系统NIFE更多>>
发文领域：电气工程理学一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《科学通报》《物理测试》《磁性材料及器件》《微细加工技术》更多>>
所获基金：上海市教育发展基金会“曙光计划”项目更多>>
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微细条形NiFe薄膜元件在磁化和反磁化过程中磁畴结构的变迁过程被引量：2
《功能材料》2000年第5期481-483,共3页余晋岳 朱军 周狄 钱建国 蔡炳初 赵小林 
详细观察了长条形NiFe薄膜元件 (宽 12 0 μm ,厚40nm)沿难轴方向 (长方向 )磁化和反磁化过程中磁畴结构变迁的全过程。观察表明 ,在磁化过程中 ,磁化转动和不可逆畴壁位移同时存在 ;在反磁化过程中 ,畴壁合并、封闭畴转变和畴壁极性转...
关键词：磁性簿膜元件 磁化 反磁化 磁畴结构 
LIGA技术X光深层光刻工艺研究被引量：3
《微细加工技术》2000年第2期66-69,共4页陈迪 李昌敏 章吉良 伊福廷 周狄 郭晓芸 
上海市教委曙光计划资助项目!(97SG10 )
通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。
关键词：LIGA技术 X光深层光刻 VLSI 微机电系统 
微型NiFe磁性薄膜元件中Neel畴壁极性的转变过程被引量：1
《金属学报》2000年第4期359-363,共5页余晋岳 朱军 周狄 禹金强 俞爱斌 蔡炳初 魏福林 
观察和分析了３００μｍ×４０μｍ×４０ｎｍ的 ＮｉＦｅ磁性薄膜元件在难轴方向反磁化时磁畴结构转变，特别是 Ｎｅｅｌ畴壁从正极性壁（Ｎ_＋）转变为负极性壁（Ｎ＿）的全过程．磁畴结构的转变包含畴壁合并、封闭畴转变、钩形畴转...
关键词：磁性薄膜元件 反磁化 磁畴 Neel畴壁 
退火效应对非晶TbFeCo薄膜磁性能的影响被引量：1
《功能材料》2000年第3期252-254,共3页周勇 赵小林 章吉良 周狄 
详细研究了退火效应对非晶TbFeCo薄膜磁滞回线的影响。 10 0℃退火表明 ,薄膜保留较大的垂直磁各向异性、矫顽力和很好的矩形比 ,磁致伸缩各向异性是引起矫顽力下降的主要原因。经 13 0℃退火显示 ,矫顽力和垂直磁各向异性明显下降 ,薄...
关键词：非晶TbFeCo薄膜 退火效应 磁滞回线 磁各向异性 
直径1mm电磁型双定子微马达的结构特点及稀土永磁在其中的应用被引量：5
《磁性材料及器件》2000年第1期15-17,共3页余晋岳 张琛 杨春生 朱军 钱建国 张明生 周狄 俞爱斌 魏福林 
上海交通大学在研制成　２ｍｍ电磁型微马达后，又在１９９９年成功地研制了 １ｍｍ电磁型双定子微马达。本文介绍了　１ｍｍ微马达的结构特点，对它的稀土永磁转子及 气隙磁场进行了分析讨论，还介绍了它的应用发展。
关键词：电磁型微马达 永磁转子 定子 稀土永磁 
微型NiFe磁阻(MR)薄膜传感元件在反磁化过程中的钩形畴活动
《功能材料》1999年第1期15-17,共3页余晋岳 蔡炳初 张明生 章吉良 赵小林 周狄 魏福林 
从NiFe磁阻（Magneto－Resistive）薄膜传感元件的实际结构出发，全面观察和分析了它在难轴方向反磁化过程中磁畴结构的转变过程发现，由于实际元件是不规则形状的，特别是由于引线形状各向异性的影响，即使在传感器形状比（aspectrati...
关键词：传感元件 反磁化 磁畴 钩形畴 传感器 磁阻薄膜 
φ1mm电磁型微电机定子绕组研制被引量：5
《微细加工技术》1998年第3期58-62,共5页赵小林 杨春生 周狄 张琛 
本文主要阐述应用微细加工技术研究和开发1 mm电磁型微电机定子绕组的制备工艺。采用高 -高比光刻技术和掩模电镀工艺 ,解决了高 -高宽比线圈的制备工艺 ,有效地降低了线圈的直流电阻 ,另外用 Al2 O3薄膜溅射工艺解决了线圈层间的绝...
关键词：高-高比光刻 定子绕组 电磁型 微电机 掩模电镀 
用磁性液体显示和观察微型磁性薄膜元件中的微磁结构的方法与实践被引量：1
《物理测试》1998年第1期34-37,共4页余晋岳 张明生 周狄 章吉良 张宏 魏福林 
对微型磁性薄膜元件中微磁结构和微磁过程的观察和分析是它的设计和应用的基础。本文介绍了用磁性液体显示微型磁性薄膜元件中磁畴结构的方法,并应用该方法观察和分析了微型条件元件和磁阻(MP)传感元件中的磁化和反磁化过程。
关键词：磁性液体 磁性薄膜元件 磁畴结构 微磁结构 
薄膜磁头磁轭制备工艺研究被引量：1
《微细加工技术》1997年第3期58-62,共5页赵小林 周狄 杨春生 蔡炳初 
本文重点讨论了用不同的工艺方法来制备薄膜磁头中的关键元件-磁轭。采用多次光刻的方法克服湿法工艺中磁性膜NiFe层的侧向钻蚀问题，从而实现对磁轭几何尺寸的精确控制，并对几种工艺方法的优缺点作了比较详细的分析。
关键词：磁轭 磁头 薄膜磁头 电化刻蚀 钻蚀 
微型磁阻元件中磁畴活动和畴壁态极性转变的研究被引量：1
《真空科学与技术》1997年第1期34-38,共5页周勇 余晋岳 宋柏泉 周狄 蔡炳初 
采用Bitter粉纹技术详细观察和研究了微型磁阻元件在磁化和反磁化过程中的磁畴结构，结果表明Barkhausen噪声来源于磁化和反磁化过程中的磁畴活动和畴壁态极性转变。磁阻元件中的曲折状畴的产生、强化和畴壁合并及畴壁态极性转变是不可...
关键词：微型 磁阻元件 磁畴活动 畴壁态 极性转变 
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