陈洪波

作品数：5被引量：4H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
发文主题：大流量硅外延SOI工艺半导体设备半导体工艺更多>>
发文领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
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军工行业信息化发展模式探讨被引量：1
《微电子学》2013年第6期837-840,854,共5页陈洪波 
军工行业信息化具有区别于其他行业的八个特点,经过多年的自主发展,很多问题愈发凸显,特别是发展思路和模式,值得重新探讨。针对这些问题,从实践出发,通过深入分析,提出以集团为主体,分两个层次的发展思路,采取平台化和技术与管理分离...
关键词：军工行业 信息化 发展模式 
PLM在模拟集成电路研制管理中的应用
《微电子学》2008年第3期334-337,共4页陈洪波 蒋和全 刘嵘侃 
模拟集成电路的研制过程通常是以项目为主线的多点和多系统串行或并行流程,运用产品生命周期管理(PLM)系统,可以对整个研制信息链进行集成管理。国内PLM系统的应用研究起步较晚,在集成电路制造行业,特别是模拟集成电路研制领域的应用,...
关键词：产品生命周期管理 模拟集成电路 半导体制造 
VG202MKII精密硅片减薄机调试技术被引量：1
《微电子学》2004年第5期565-568,共4页陈洪波 熊化兵 
　VG202MKII全自动精密硅片减薄机是SOI工艺的主要设备之一。由于其具有高精度、全程控等特点,设备构造较复杂,调试难度较大。文章由原理到实际、由流程到技巧,比较系统地阐述了该设备的关键调试技术。
关键词：半导体设备 硅片减薄机 SOI工艺 
硅外延用大流量超纯氢气纯化系统的设计技术
《微电子学》2002年第5期389-390,394,共3页陈洪波 冯建 熊化兵 李文 李智囊 
在半导体集成电路制造工艺中 ,超纯氢气是必不可少的重要工艺气体。特别是在硅外延工艺中 ,氢气对工艺质量起着决定性作用。因此 ,对氢气的指标要求比较苛刻 ,其纯度应大于99.9999% ,而且必须是大流量连续供应。文章主要从流体学和传热...
关键词：硅外延 纯化系统 超纯氢气 雷诺准数 努塞尔特准数 
大流量超纯氢气纯化设备制造技术被引量：2
《微电子学》2002年第2期152-153,160,共3页熊化兵 李文 陈洪波 谈长平 
超纯氢气 (大于 6N)是半导体硅外延等工艺必备的工艺气体。文章介绍了利用超低温吸附的方法提纯大流量超纯氢气的工作原理 ,设备制造中的关键技术问题及难点 。
关键词：硅外延 半导体工艺 超纯氢气 超低温吸附 纯化设备 
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