国家高技术研究发展计划(2005AA33H010)

作品数：42被引量：141H指数：7
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相关作者：蒋百灵李洪涛严少平张永宏白力静更多>>
相关机构：西安理工大学安徽理工大学陕西理工大学西安交通大学更多>>
相关期刊：《材料科学与工程学报》《兵器材料科学与工程》《材料热处理学报》《腐蚀科学与防护技术》更多>>
相关主题：磁控溅射非平衡磁控溅射CRX射线光电子能谱摩擦磨损性能更多>>
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碳掺杂对CrN镀层显微硬度与组织结构的影响被引量：9
《真空科学与技术学报》2012年第2期158-162,共5页胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 
国家"863"科技攻关项目(2005AA33H010)
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显...
关键词：磁控溅射 CrCN镀层 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱 
等离子体清洗工艺对镁基金属表面形貌及膜/基结合强度的影响被引量：3
《功能材料》2011年第6期1127-1129,1133,共4页梁戈 李洪涛 蒋百灵 吴文文 张红军 杨平 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2005AA33H010)
采用不同等离子体清洗工艺对镁基金属样品进行清洗,随后磁控溅射沉积纯Cr镀层。利用SEM、划痕仪分析了不同等离子体清洗工艺下镁基金属的表面形貌与膜/基结合强度的变化。结果表明,过高的清洗偏压作用下,基体表面会产生深径比>0.5的孔...
关键词：等离子体清洗 镁合金 表面形貌 结合强度 
不同非平衡度磁场环境中溅射等离子体的诊断与分析被引量：1
《真空科学与技术学报》2011年第6期696-700,共5页曹政 蒋百灵 杨波 鲁媛媛 
国家高技术研究发展计划(863计划)基金资助项目(2005AA33H010)
采用Langmuir探针对两种不同非平衡度磁场环境中(K值分别为2.78和6.41)的溅射等离子体进行诊断,并使用高斯仪测量靶材表面的磁感应强度,结合靶材表面磁场分布的Ansys软件模拟,分析了等离子体在非平衡磁场环境中的运动规律。结果表明:磁...
关键词：非平衡磁场 Langmuri探针 等离子体密度 磁感应强度 
磁场闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响差异分析被引量：1
《材料科学与工程学报》2011年第1期25-29,共5页蒋百灵 曹政 丁小柯 鲁媛媛 
国家高技术研究发展计划(863计划)项目基金资助项目(2005AA33H010)
采用磁场完全闭合状态和不闭合状态两种磁场组态分别沉积Cr镀层,并利用Langmuir探针诊断其放电等离子体,测量了离子密度、电子密度和电子温度(EED)在两种磁场组态中的分布规律。结果表明:磁场不闭合状态时的等离子体密度较低,而完全闭...
关键词：完全闭合状态 不闭合状态 LANGMUIR探针 Cr镀层 离子轰击 
磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态被引量：3
《金属热处理》2011年第2期41-44,共4页胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 
国家"863"科技攻关项目(2005AA33H010)
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电...
关键词：磁控溅射 CrTiAlCN镀层 X射线衍射 X射线光电子能谱 碳键 
碳靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响被引量：5
《功能材料》2011年第1期175-177,181,共4页胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 
国家高技术研究发展计划(863计划)科技攻关资助项目(2005AA33H010)
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于单晶硅和M2高速钢基片上制备CrCN镀层以研究C靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响,并通过能谱、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱分析了C元素的存在状态及其对CrCN镀层组织结构的影响规律。...
关键词：磁控溅射 CrCN镀层 摩擦系数 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱 碳键 
基于磁控溅射技术的CrCN镀层中碳元素的存在状态被引量：4
《材料热处理学报》2010年第12期134-138,共5页蒋百灵 胡鹏飞 李洪涛 
国家"863"科技攻关项目(2005AA33H010)
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层,研究了不同C靶电流CrCN镀层的摩擦系数、碳含量和物相组成,并分析了镀层中碳元素的化学态。结果表明:当C靶电流从0增大到1.5 A时,镀层摩擦系数从0.75降至0.3,随着...
关键词：磁控溅射 CrCN镀层 X衍射 X射线光电子能谱 碳键 
电场环境对磁控溅射纯Cr薄膜沉积过程的影响被引量：2
《功能材料》2010年第11期2006-2009,2013,共5页李洪涛 蒋百灵 杨波 付杨洪 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2005AA33H010);西安理工大学优秀博士学位论文研究基金资助项目(101-210905)
基于磁控溅射离子镀技术,以纯Cr薄膜为研究对象,分析了电场环境对纯Cr薄膜微观组织结构的影响规律;结合溅射沉积和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜沉积过程的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化和非晶化进程中...
关键词：电场环境 磁控溅射 纯Cr薄膜 微观结构 
磁控管非平衡状态对Cr膜微观形貌及性能的影响
《材料热处理学报》2010年第10期100-105,共6页文晓斌 李显 梁戈 蒋百灵 
国家"863"科技攻关基金资助项目(2005AA33H010)
采用直流磁控溅射方法于不同磁控管非平衡度状态下,通过单靶溅射模式在单晶Si衬底上制备了Cr膜。利用AFM、SEM、四探针测试仪及MTS Nano Indenter XP纳米压入测量仪分别对两种磁控管非平衡状态下所得Cr膜的微观形貌、电阻率、纳米硬度...
关键词：磁控管非平衡度 微观形貌 纳米硬度 抗磨损性 
自润滑Cr/C复合镀层的制备和机械性能研究被引量：6
《功能材料》2010年第7期1150-1153,1157,共5页贾贵西 李言 李洪涛 胡鹏飞 张翔 蒋百灵 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2005AA33H010)
采用闭合场非平衡磁控溅射技术,固定碳靶电流参数,调节铬靶电流参数,在GCr15轴承钢球、45#钢和单晶硅基体上制备出自润滑Cr/C复合镀层。用XRD对镀层相结构进行分析,测试了镀层的摩擦系数、磨损率、结合强度、硬度和韧性,用光学显微镜观...
关键词：磁控溅射 溅射工艺参数 Cr/C自润滑镀层 机械性能 
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