国家自然科学基金(50505037)

作品数：20被引量：61H指数：4
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不同形貌衬底上铝诱导poly-Si薄膜的制备及表征
《光谱学与光谱分析》2009年第3期752-755,共4页王成龙 范多旺 刘红忠 张福甲 邢达 刘颂豪 
教育部长江学者与创新团队计划项目(IR0629);国家科技支撑计划项目(2006BAE04B05-3);国家自然科学基金项目(50505037,60676033);兰州交通大学“青蓝”人才工程计划项目(QL2006A16)资助
以表面平整、粗糙的玻璃为衬底,在不同衬底温度下直流磁控溅射沉积a-Si薄膜,制备成glass/a-Si/Al样品,经退火处理制备了poly-Si薄膜。分别采用Raman光谱、XRD光谱等手段研究了衬底粗糙度以及衬底温度对铝诱导晶化(AIC)制备的poly-Si品...
关键词：a-Si薄膜 粗糙度 衬底温度 晶化 AIC 
退火气氛对铝诱导a-Si薄膜结晶过程的影响
《Journal of Semiconductors》2008年第8期1544-1547,共4页王成龙 范多旺 孙硕 张福甲 
国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA04Z322);教育部长江学者与创新团队计划(批准号:IR0629);国家自然科学基金(批准号:50505037;60676033);兰州交通大学"青蓝"人才工程资助项目~~
以玻璃为衬底,室温条件下采用直流磁控溅射技术制备了Glass/Al/a-Si样品.在H2,N2和空气3种不同气氛中进行了退火处理.分别采用XRD,Raman光谱和SEM研究了退火气氛对a-Si薄膜铝诱导晶化(AIC)过程的影响.XRD实验结果表明:a-Si薄膜在H2气氛...
关键词：a-Si薄膜 退火 晶化 AIC 
软紫外光压印光刻的模具制造研究
《西安交通大学学报》2008年第7期880-884,共5页秦歌 丁玉成 刘红忠 
国家自然科学基金资助项目(50505037);国家高技术研究发展计划资助项目(2006AA04Z322;2006AA05Z411);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);陕西省自然科学基金资助项目(2006E109);西安-应用材料创新基金资助项目(XA-AM-200505;XA-AM-2006609)
在软紫外光压印光刻中,提出以光刻胶为母版材料翻制聚二甲基硅氧烷软模具的工艺方法,并把图型母版材料对软模具制造过程的影响进行了实验研究.研究表明,软模具图型质量仅和浇铸过程的充型压力有关,在0.05 Pa的真空压力下充型,光刻胶母...
关键词：光刻胶 母版材料 软模具 
AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征被引量：4
《腐蚀与防护》2008年第4期182-184,共3页王成龙 范多旺 刘红忠 赵琳 卢萍 冷娜 
国家支撑计划项目(编号:2006BAE04B05-3);国家高技术研究发展计划(编号:2006AA05Z411);教育部长江学者与创新团队发展计划项目(编号:IRT0629);国家自然基金资助项目(编号:50505037)
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明...
关键词：镁合金 阴极多弧离子 TiN复合层 
基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究被引量：1
《微细加工技术》2007年第4期18-21,共4页张亚军 丁玉成 卢秉恒 
国家自然科学基金资助项目(50505037);国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203)
针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术。采用传统的光刻版作为紫外压印模版,由于模版上铬层的遮蔽作用,使得铬层下面的光刻胶不被曝光,从而可以轻易地被去除。实验结果表明,...
关键词：纳米压印 光刻 留膜 
压印光刻中紫外光诱导阻蚀胶固化控制计算
《光子学报》2007年第B06期231-234,共4页陈立峰 卢秉恒 
国家自然科学基金(50505037);国家973重点基础研究发展计划(2003CB716203);中国博士后科学基金(2005037242)资助
针对压印过程中两类基本的复型缺陷,从实验分析中得出其主要原因是曝光后阻蚀胶的固化程度难以控制.通过分析紫外曝光光源与阻蚀胶的光谱匹配性,得出使得阻蚀胶固化的有效波长为365 nm;对光诱导紫外曝光过程中紫外光的传播分析,建立了...
关键词：压印光刻 固化程度 粘度 
镁合金表面Ti—TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征被引量：1
《功能材料》2007年第A10期4087-4089,共3页王成龙 范多旺 刘红忠 赵琳 卢萍 冷娜 
国家支撑计划资助项目（2006BAE04805-3）;国家高技术研究发展计划（863计划）资助项目（2006AA052411）;教育部长江学者与创新团队发展计划资助项目（IRT0629）;国家自然科学基金资助项目（50505037） 致谢：感谢兰州交通大学“青蓝”人才工程计划的资助.
表面强化、耐蚀处理对镁及其合金的应用至关重要。采用阴极多弧离子镀膜技术，在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了强结合力的以Ti为过渡层的TiN复合膜层，并利用高分辨扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、CSM显微划痕测试等技...
关键词：镁合金 阴极多弧离子 TiN复合层 
释放保型软压印光刻工艺被引量：4
《机械工程学报》2007年第8期86-90,共5页刘红忠 丁玉成 卢秉恒 尹磊 蒋维涛 史永胜 邵金友 
国家重点基础研究发展计划(973计划;2003CB716203);国家自然科学基金(50505037);国家863探索(2006AA04Z322;2006AA05Z411);西安-AM创新基金(XA-AM-200505;XA-AM-200609);陕西省自然科学基金(2006E109)资助项目。
针对压印过程中模具与晶圆密贴度和压印面积的矛盾,提出释放保型软压印光刻工艺。此工艺包括五步加载过程,可充分挖掘压印图型转印误差根源以及图型转印保真度与阻蚀胶留膜厚度的内在矛盾。通过目标载荷量的调节与控制将模具弹性回弹调...
关键词：释放保型 弹性模具 软压印 
下一代光刻技术——压印光刻被引量：13
《机械工程学报》2007年第3期1-7,共7页丁玉成 刘红忠 卢秉恒 李涤尘 
国家重点基础研究发展计划(2003CB716203;2006AA04Z322;2006AA05Z411)国家自然科学基金(50505037)中国博士后基金(2005037242)资助项目。
通过分析集成电路制造工艺中的核心环节——光刻技术,采用机械微复形原理的压印光刻技术可避免传统光学光刻的光学衍射限制,能够对最小到6 nm特征尺寸的图形进行复制。通过研究压印光刻原理,详细分析对比热压印及常温压印的工艺特点、...
关键词：集成电路 光刻技术 压印 光刻 
压印光刻中模具空间位姿的识别及仿真
《西安交通大学学报》2007年第1期55-58,共4页蒋维涛 丁玉成 卢秉恒 刘红忠 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50505037);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)
在纳米压印光刻中,为了减小模具与晶片的平行度误差,将精对正光栅标记的相对误差校正到半栅距范围之内,并建立了点光源映射的数学模型,对模具空间位姿的投影进行图像识别.在算法设计的基础上,建立了纳米压印光刻系统中的粗对正系统及其...
关键词：纳米压印 点光源映射 粗对正 
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