CD-SEM

作品数：9被引量：9H指数：2
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：李锁印许晓青赵琳冯亚南梁法国更多>>
相关机构：中国电子科技集团第十三研究所株式会社日立高新技术上海精测半导体技术有限公司株式会社东芝更多>>
相关期刊：《上海计量测试》《集成电路应用》《微纳电子技术》《传感技术学报》更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-9
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
基于晶圆栅格标准样片的特征尺寸扫描电子显微镜放大倍数在线校准被引量：1
《计量科学与技术》2023年第2期29-35,共7页金红霞 饶张飞 秦凯亮 
国家重点研发计划项目(2018YFF0212303)
半导体制程中特征尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)是用于芯片特征尺寸在线测量的高精度设备,其测量结果会直接影响器件电性能参数评估和电路产品可靠性判断。对CD-SEM的计量特性评价,国内目前仍缺乏专用计量标准器具和校准规范,在实际工作中...
关键词：计量学 晶圆栅格标准样片 特征尺寸 CD-SEM 放大倍数校准 不确定度分析 
微纳米线距标准样片的研制与应用
《传感技术学报》2022年第11期1451-1457,共7页赵琳 张晓东 韩志国 李锁印 许晓青 冯亚南 吴爱华 
为了精确控制线宽尺寸参数,研制了一套周期尺寸为100 nm~10μm的线距标准样片。首先,依据样片的应用进行了图形设计,分别采用电子束直写和投影光刻技术开发出线距标准样片,并对制备出的样片进行考核,考核参数包括线距尺寸、均匀性、稳...
关键词：微纳米 线距样片 研制 CD-SEM 均匀性 稳定性 校准 
纳米线距标准样片的研制和表征被引量：7
《微纳电子技术》2019年第9期754-760,共7页许晓青 李锁印 赵琳 梁法国 孙虎 
论述了线距标准在扫描电子显微镜(SEM)类测量仪器校准中的重要性和作为标准物质的基本要求,指出了纳米线距标准物质的研制和表征在纳米量值溯源体系中的重要作用。通过材料选择、结构设计和制作工艺优化研制出了线距标称值为100nm的纳...
关键词：纳米线距 CD-SEM 制作工艺 质量参数 均匀性 稳定性 
基于图像分析的CD-SEM显微视觉清晰度检测技术研究
《集成电路应用》2019年第8期52-55,共4页姜国伟 田宝 章屠灵 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1500223)
在集成电路制造业,对CD-SEM显微图像进行精确地清晰度检测是对关键层图案的特征尺寸CD(Critical Dimension)量测的基础。通过与目前常用的、具有代表性的多种清晰度评价方法进行实验验证分析和对比,提出一种基于小波变换和规则集合相结...
关键词：CD-SEM显微图像 图像处理 小波变换 清晰度检测 
基于CD-SEM的线距标准样片测量
《上海计量测试》2019年第1期21-23,共3页冯亚南 赵琳 李锁印 韩志国 许晓青 
针对线距标准样片线间距的测量需求,基于关键尺寸扫描电镜(CD-SEM),提出了一种宽度测量方法。首先,介绍了CD-SEM测量系统的基本原理;其次,使用CD-SEM对VLSI生产的标称尺寸为100 nm、3μm、10μm的线距标准样片进行了测量;最后,对测量不...
关键词：线间距 CD-SEM 不确定度 线距样片 
新型FEB测长仪CD-SEM CG6300发布
《军民两用技术与产品》2015年第15期35-35,共1页日经 
日立高新技术公司发布了FEB（场发射电子束）测长装置的新产品——CD—SEM CG6300测长仪，可满足7nm工艺元件开发和10nm工艺元件量产的工艺控制需求。与原CG5000机型产品相比，该新型测长仪采用了新的电子光学系统，提高了分辨率，具有...
关键词：测长仪 FEB 工艺控制 电子光学系统 测长装置 高新技术 SEM 电子束 
CD-SEM如何与散射成像相互补充被引量：2
《集成电路应用》2009年第9期20-23,共4页Alexander E. Braun 
自从散射成像技术开始应用于IC制造业后，就没有停止过与特征尺寸扫描电子显微镜（CD—SEM）之间的竞争，伴随着激烈的竞争，两项技术都不断地进行着改进（图1）。从半导体技术发展蓝图的角度来讲，这种竞争所产生的结果是正面的。现在...
关键词：成像技术 SEM 散射 CD 扫描电子显微镜 互补 特征尺寸 半导体技术 
新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU被引量：1
《集成电路应用》2008年第4期31-33,共3页Ilan Englard Rich Piech Liraz Gershtein Ram Peltinov Ofer Adan 
采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。
关键词：双沟道 CDU 图形化 套刻 控制策略 均匀性 内置 
未来CD-SEM校正标准的发展
《集成电路应用》2006年第7期40-40,共1页Alexander E.Braun 
在德克萨斯州立大学与Sematech协作的、德克萨斯发起的先进材料研究中心（AMRC），人们正在试图将硅纳米线应用于微电子行业，作为SEM测量标准。
关键词：测量标准 德克萨斯州 校正 微电子行业 研究中心 先进材料 硅纳米线 SEM 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部