电阻率变化

作品数:89被引量:310H指数:11
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硅单晶测试参数的差异分析
《电子工业专用设备》2022年第5期29-31,共3页田原 
为实现对单晶参数的综合分析,指导单晶制备,迫切需要分析各单晶参数之间的关联性。采用统计分析方法,针对N<111>轻掺P单晶进行了差异分析,发现寿命与电阻率呈显著负相关,旋涡情况与寿命、电阻率不均性相关性不显著。对N<111>重掺As单晶...
关键词:硅单晶 假设检验 少子寿命 径向电阻率变化 氧含量 
不同选点方案下硅单晶薄层径向电阻率变化
《电子工业专用设备》2017年第6期24-27,69,共5页李万策 
影响半导器件生产的的因素有很多,而硅单晶电阻率不均匀性就是众多衡量硅材料质量参数中的一个。电阻率对后道加工器件的稳定和重复性,甚至器件的质量参数指标都有很大的关联。硅单晶电阻率均匀性的指标要求也随着半导体器件的加工日益...
关键词:硅单晶 径向电阻率 四探针 不均匀性 
PVT法掺钒SiC单晶生长电阻率变化规律研究
《电子工业专用设备》2012年第6期31-34,共4页洪颖 冯玢 王磊 吴华 郭俊敏 杜萍 
在采用COREMA方法测试SiC晶片电阻率时发现同一晶片电阻率相差较大,主要体现在高阻(>105Ω.cm量级)和低阻(<105量级)并存,有的甚至超高阻(>1012量级)和低阻并存,针对这一测试结果,开展了相关的实验研究,SiC单晶半绝缘性能的实现是通过...
关键词:SIC 电阻率 均匀性 COREMA SIMS 
生长系统对高阻区熔硅单晶径向电阻率变化的影响被引量:2
《电子工业专用设备》2011年第9期11-13,38,共4页闫萍 索开南 庞炳远 
分别采用L4375-ZE区熔炉和CFG/1400P区熔炉,生长了N型、(1.5~4.5)×103Ω.cm和P型、(1.0~5.0)×104Ω.cm两种规格的高阻区熔硅单晶,单晶的直径为52~54 mm,晶向为<111>。经对单晶的电阻率及其径向分布进行检测对比后发现,在加热线圈...
关键词:区熔炉 高阻 硅单晶 电阻率径向分布 
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