显影机

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提高涂胶显影机产能的方法被引量：1
《今日制造与升级》2023年第5期38-40,共3页高晓旭 张岳 王丽鹤 
随着各种消费类电子产品的快速升级迭代,各大终端芯片制造厂(FAB)都在极致地追求产品产能最大化,会优先考虑在有限空间下布局更多的工艺设备,而光刻机作为芯片制造工序最为重要、价格最贵且技术含量最高的核心设备,一直保持着迭代更新...
关键词：涂胶显影机产能 半导体设备 单元配方优化 机器人提速 风流控制 
虹科HK-CIFX PC通讯板卡使匀胶显影机控制一体化
《国内外机电一体化技术》2021年第1期28-29,共2页无 
1前言匀胶显影机是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。—般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压辐、涂胶槽等部分...
关键词：化工材料 动力系统 光刻工艺 浸没式 导电玻璃 涂布 控制一体化 水洗槽 
SLOC传感器光刻干燥不良的改善
《液晶与显示》2021年第2期265-271,共7页李石雷 刘超强 吴东起 邱靖文 郑晓虎 刘群 李伟 张泽军 
液晶面板上配单层触控传感器(Single Layer On Cell,SLOC)产品在完成传感器光刻工艺后,在宏观检查机上观察,基板的彩膜倒角侧存在大面积的不良(Mura),测试不良区域与正常区域的关键尺寸(CD)值,不良区域的CD值明显偏大,部分点位超出管控...
关键词：干燥不良 CD均一性 缺陷不良 显影机 二次液切 
浅谈显影机的维护与保养
《信息记录材料》2019年第10期233-234,共2页杜忠意 熊谟勇 
显影机作为液晶面板生产制造中的重要设备,显影室洁净度及显影效果对产品工艺及良率影响非常重要,定期保养显影机设备各机构部位,不仅可以保证设备的动作正确及工艺正常,确保显影机质量符合要求,还能提升设备的使用寿命,节约人力物力成本。
关键词：显影机 ROLLER FILTER 显影Chamber 搬送Conveyor 
共享手臂型涂胶显影机特殊T形缺陷成因及解决办法研究被引量：1
《中国集成电路》2019年第4期66-69,共4页秦利鹏 
随着光刻图形尺寸越来越小,缺陷(任何对目标图形的偏离)对产品良率影响越来越大。在各种各样的缺陷产生原因中,显影缺陷是影响产品良率的一种主要的缺陷来源。本文通过对T map缺陷所经过涂胶与显影单元次数分析,在仔细研究显影单元构造...
关键词：光刻 缺陷 Tmap 回吸 
对涂胶显影机与光刻机内联控制的研究被引量：2
《科技经济导刊》2018年第33期47-48,共2页王绍勇 黄琳琳 
沈阳市重大共性关键技术创新专项(17-92-0-00)
光刻工艺是集成电路制造(前道)过程中的重要环节。在集成电路制造过程中,通常将涂胶显影机与光刻机相连接,进行一体化加工。目前,国产涂胶显影机与光刻机的内联控制在技术资料等资源方面相对匮乏,从机械接口形式、通信协议、调度、故障...
关键词：光刻机 涂胶显影机 内联 
显影液用超声波脱气装置
《科技创新导报》2018年第23期108-109,共2页顾永田 程虎 李泽 
我公司显影机台多采用PUDDLE方式进行显影,显影液的供液方式为氮气加压,在氮气加压罐里会不可避免的有气体与显影液混合,在显影液从喷嘴喷出的时候,会有气体析出,在晶圆上形成细小泡沫,影响显影效果。超声波可以在液体中传播并产生空化...
关键词：显影机 供液 脱气装置 
半导体涂胶显影机产能分析被引量：1
《中国新技术新产品》2018年第5期49-50,共2页祁峰 
随着我国科学技术的发展,我国半导体制造行业得到了极大的发展,随着企业的发展,在生产过程中如何使用必要的技术来优化半导体产品的生产研制过程以提升其产能是当前应当进行研究的问题。当前生产的重点是半导体涂胶显影设备,在实际生产...
关键词：半导体 涂胶显影机 产能计算 优化建议 
半导体涂胶显影机产能分析被引量：1
《中国高新技术企业》2016年第4期71-72,共2页郑春海 许凯 
中国半导体行业发展越来越快,半导体设备的产能,即晶圆传送方法的研究在半导体装备研制的过程中的作用愈加关键。涂胶显影设备更需传片方法来指导装备的布局设计,提高装备产能,满足不同的严苛需求。文章根据半导体装备发展的历程,给出...
关键词：半导体 半导体设备 涂胶显影机 晶圆传送方法 产能计算 
专用自动PCB显影机被引量：1
《科技视界》2015年第18期92-92,127,共2页赵永 
显影是PCB板制作过程中的一个重要工序,它决定着PCB板的品质。介绍了PCB板显影的工艺原理、过程,并详细介绍了专用自动PCB显影机的组成、各单元结构及功能。
关键词：PCB显影 显影设备 自动显影设备 
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