线边缘粗糙度

作品数：11被引量：19H指数：2
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相关领域：电子电信机械工程更多>>
相关作者：赵学增李洪波陈金平于天君李嫕更多>>
相关机构：哈尔滨工业大学中芯国际集成电路制造(上海)有限公司中芯国际集成电路制造(北京)有限公司中国科学院更多>>
相关期刊：《计算机与数字工程》《光学精密工程》《哈尔滨工业大学学报》《南京理工大学学报》更多>>
相关基金：教育部留学回国人员科研启动基金哈尔滨工业大学校基金资助国家自然科学基金河南省基础与前沿技术研究计划项目更多>>
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Si/SiO_(2)多层膜线宽关键参数精细化表征技术研究被引量：1
《红外与激光工程》2024年第1期151-161,共11页褚小要 沈瑶琼 刘丽琴 邹文哲 管钰晴 郭创为 张玉杰 梁利杰 孔明 雷李华 
上海市优秀学术/技术带头人计划项目(21XD1425000)。
线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)是衡量线宽标准样片质量的重要指标。文中基于自溯源光栅标准物质的自溯源、高精密尺寸结构特性,提出了一种直接溯源型精确校准SEM放大倍率的方法,以实现SEM对线宽标准样片关键参数的测量与表征。利...
关键词：自溯源标准物质 SEM放大倍率 线边缘粗糙度 线宽粗糙度 多层膜线宽 
纳米级线宽标准样片的设计与制备被引量：4
《计算机与数字工程》2021年第4期664-668,共5页韩志国 李锁印 冯亚南 赵琳 吴爱华 
介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm~200nm的线宽样片。以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线...
关键词：线宽标准样片 电子束 线宽偏差 线边缘粗糙度 均匀性 稳定性 
纳米尺度栅线结构的线边缘粗糙度分析和表征被引量：1
《计量学报》2010年第6期481-485,共5页赵凤霞 蒋庄德 景蔚萱 
国家自然科学基金重点项目（90923001）、国家自然科学基金项目（50975262）
为了对线边缘粗糙度（LER）和线宽粗糙度（LWR）进行分析和表征，采用电子束光刻工艺和感应耦合等离子体刻蚀工艺制备了两种纳米尺度栅线结构，用扫描电子显微镜（SEM）对所制备结构进行了检测和定性分析。基于离线SEM图像分析法提取了...
关键词：计量学 纳米栅线结构 线边缘粗糙度 线宽粗糙度 扫描电子显微镜 
基于Motif参数的线边缘粗糙度评定方法研究
《计量技术》2009年第4期14-17,共4页赵凤霞 张琳娜 郭三刺 
河南省基础与前沿技术研究项目（No.072300440120）、河南省教育厅项目（No.2007410003）
针对现有线边缘粗糙度（line edge roughhess，LER）表征参数的不足，提出采用基于Motif参数的LER表征方法。对Motif参数的基本概念和评定流程进行了介绍，并以多层薄膜沉积技术制备的纳米线宽样板的LER评定为例进行了实验。结果表明：M...
关键词：线边缘粗糙度 评定 Motif参数 
使用原子力显微镜测量刻线边缘粗糙度的影响因素被引量：4
《光学精密工程》2009年第4期839-848,共10页赵学增 李宁 周法权 李洪波 
2003年教育部留学回国人员科研启动基金资助项目;哈尔滨工业大学校基金资助项目(No.HIT.2002.28)
为了满足微电子制造技术中不断提高的刻线边缘粗糙度测量与控制精度的要求,对使用原子力显微镜(AFM)测量刻线边缘粗糙度的影响因素进行了研究。基于图像处理技术从单晶硅刻线样本的AFM测量图像中提取出线边缘粗糙度,并确定出其量化表征...
关键词：纳米测量 线边缘粗糙度 原子力显微镜 测量误差分析 
基于平稳小波变换的纳米尺度线边缘粗糙度分析方法(英文)被引量：1
《纳米技术与精密工程》2009年第2期147-154,共8页赵学增 李宁 褚巍 周法权 周瑞 
为了解决微电子制造技术中纳米尺度半导体刻线边缘粗糙度(line edge roughness,LER)的测量问题,笔者提出了基于平稳小波变换的线边缘粗糙度分析方法.首先,使用原子力显微镜测量硅刻线形貌,通过图像处理与阈值方法提取出线边缘粗糙度特征...
关键词：纳米测量 线边缘粗糙度 原子力显微镜 平稳小波变换 多尺度分析 
基于AFM的刻线边缘粗糙度幅值与空间频率的表征方法被引量：1
《纳米技术与精密工程》2008年第5期367-371,共5页李宁 赵学增 褚巍 李洪波 
针对使用原子力显微镜测量纳米尺度半导体刻线边缘粗糙度的参数表征问题进行了研究．在对线边缘粗糙度的定义与现有测量方法进行分析的基础上，采用图像处理技术分析硅刻线的原子力显微镜测量图像的线边缘粗糙度特征，提出了线边缘粗糙...
关键词：纳米测量 线边缘粗糙度 原子力显微镜 小波多分辨分析 
基于AFM单晶硅台阶线边缘粗糙度、顶表面和底表面粗糙度的测量被引量：1
《南京理工大学学报》2007年第4期478-481,共4页李洪波 赵学增 
采用原子力显微镜以TOP-DOWN方式测量单晶硅刻线单侧形貌。提出以单次扫描线上5个最低测量值的平均值为高度参考点且各条扫描线参考高度在统计意义下相等,校正(原子力显微镜)AFM压电驱动器高度方向非线性。通过NIST高度算法和直方图方...
关键词：纳米计量 原子力显微镜 压电驱动器 边缘粗糙度 顸表面和底表面粗糙度 
基于计量学的线边缘粗糙度定义被引量：4
《机械工程学报》2007年第1期214-218,共5页赵学增 李洪波 褚巍 肖增文 李宁 
2003年教育部留学回国人员科研启动基金;哈尔滨工业大学校基金(HIT.2002.28)资助项目
对目前线边缘粗糙度(Line edge roughness,LER)的研究进行了分类,区分线宽变化率、线的边缘粗糙度和侧墙(边缘)粗糙度的物理本质。重新给出一个LER定义,定义LER是由加工工艺和材料本身结构引起的刻线侧墙的表面形貌微观不规则程度,并分...
关键词：纳米计量 临界尺寸 线边缘粗糙度 材料本质粗糙度 扫描电子显微镜(SEM) 原子力显微镜(AFM) 
基于子波分析的线边缘粗糙度表征参数研究
《哈尔滨工业大学学报》2006年第4期532-534,545,共4页李洪波 赵学增 褚巍 李宁 
分析了现有线边缘粗糙度(L ine Edge Roughness,LER)表征参数的不足,针对二维LER的表征参数信息量缺失,提出了基于子波中面的LER参数表征.子波理论给LER的综合评定提供了恰当的工具.利用子波在空间和频率域内都具有的定位特性,可以在任...
关键词：临界尺寸 纳米计量 刻线边缘粗糙度 多分辨分析 
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