光学邻近效应

作品数：34被引量：53H指数：3
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相关作者：李艳秋马旭罗先刚郭永康王长涛更多>>
相关机构：ASML荷兰有限公司中国科学院微电子研究所中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力集成电路制造有限公司更多>>
相关期刊：《微电子技术》《光学学报》《微细加工技术》《中国集成电路》更多>>
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一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真被引量：1
《微纳电子技术》2015年第3期197-203,共7页宋之洋 郭沫然 苏晓菁 刘艳松 粟雅娟 韦亚一 
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303)
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研...
关键词：光刻 计算光刻 光学邻近效应校正(OPC) 光学邻近效应匹配 工艺窗口控制 
掩模制作中的邻近效应被引量：2
《微纳电子技术》2002年第11期36-40,共5页杜惊雷 石瑞英 崔铮 郭永康 
国家自然科学基金项目(69907003);博士点基金资助项目
计算模拟了激光束和电子束直写加工的掩模畸变,并分别用理想掩模和有畸变的掩模进行投影光学光刻过程的模拟和比较,讨论了光学邻近效应校正掩模在加工过程中所产生的畸变对传递到最终基片上的图形的影响。模拟分析指出,掩模加工中的邻...
关键词：掩模制作 邻近效应 光学邻近效应 掩模畸变 光刻模拟 光学邻近校正 微光刻 
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