氮化锆薄膜

作品数：17被引量：21H指数：2
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氮分压对ZrN薄膜结构及颜色的影响
《真空》2021年第1期57-62,共6页吴键坤 李兆国 彭丽萍 易勇 张继成 
国家自然科学基金(编号:11604310);国家自然科学基金(编号:21875061);环境友好能源材料国家重点实验室自主课题资助(编号:237/19fksy08,1)。
采用直流反应磁控溅射法,通过改变反应气体N2分压(5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%),在SiO2/Si(111)基片上制备ZrN薄膜。利用XRD、SEM、EDS分析了薄膜的物相、结构、形貌以及成分,使用分光光度计测量了薄膜的反射光谱,并进一步确定了...
关键词：氮化锆薄膜 磁控溅射 成分与结构 色度 
手表装饰用氮化锆薄膜的制备及性能
《电镀与涂饰》2020年第14期916-920,共5页刘海华 宋鹏涛 郭新刚 陈世佳 龚翔 罗晨 黄宝渝 
采用离子镀与磁控溅射工艺在316L不锈钢上制备了Cr(Si)/ZrN/Au梯度薄膜。该薄膜呈金黄色,具有优良的结合强度、耐蚀性和耐磨性,是理想的手表用装饰性膜层。其中金层厚度小于10 nm,用金量极少。
关键词：不锈钢 氮化锆薄膜 离子镀 磁控溅射 耐蚀性 耐磨性 
银合金镀覆氮化锆薄膜的颜色及耐蚀性研究被引量：1
《电镀与涂饰》2014年第3期111-114,共4页刘春敬 袁军平 黄宇亨 
广东省教育厅资助项目(2012gczxB003)
采用多弧离子镀膜技术在925银合金表面沉积浅黄色氮化锆薄膜，研究了镀覆时间和基底粗糙度对膜层颜色及耐蚀性的影响。结果表明，银合金基底上镀ZrN膜时，成色迅速，镀覆1～2min时膜层颜色已接近2N-18黄色；随镀覆时间延长，膜层的日＋...
关键词：银合金 多弧离子镀膜 氮化锆薄膜 颜色 耐蚀性 
射频溅射法制备氮化锆薄膜工艺与性能分析被引量：1
《中国卫生产业》2011年第5期44-44,共1页胡六平 
现如今口腔不锈钢材料表面已经研发出了许多工艺,本文主要是分析在其表面采用射频电源磁控溅射一层氮化错薄膜对薄膜形貌、颜色等方面的影响。运用这项技术可以大大的减少成本,使材料集外观、美感、安全性为一体,同时还大大的提升了材...
关键词：射频溅法 氮化锆薄膜 性能分析 
高功率脉冲磁控溅射氩氮比对ZrN薄膜结构及性能的影响被引量：2
《真空》2011年第1期13-17,共5页吴忠振 田修波 段伟赞 巩春志 杨士勤 
国家自然科学基金(10775036和50773015)
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。Ar/N对薄膜相结构及硬度、耐磨耐蚀等有较大影响。XRD结果显示...
关键词：高功率脉冲磁控溅射 氮化锆薄膜 微观结构 表面性能 
磁控溅射制备ZrN_x薄膜离子导体性能研究被引量：1
《功能材料》2010年第3期450-452,456,共4页黄佳木 覃丽禄 董思勤 
采用射频反应磁控溅射工艺,以纯Zr为靶材,在WO3/ITO/Glass基片上采用不同工艺参数沉积ZrNx薄膜,用紫外-可见分光光度计、循环伏安法、X射线衍射仪、扫描电镜等研究了ZrNx薄膜的离子导电性能。研究结果表明,所制备的ZrNx薄膜为非晶态,ZrN...
关键词：射频反应磁控溅射 氮化锆薄膜 离子导体 
纳米氮化锆薄膜的光学性能研究被引量：1
《太阳能学报》2007年第12期1308-1311,共4页黄佳木 王亚平 张兴元 
采用射频磁控溅射法在载玻片和硅片上制备了纳米氮化锆薄膜。结果表明,纳米氮化锆薄膜(10～29nm)呈非晶态,其光学特性在波长380～2700nm的范围内平均可见光透过率为82.86%,平均反射率低至10.78%。扫描隧道谱(SIS)分析表明薄膜禁带宽度E_...
关键词：薄膜光学 纳米氮化锆 电子结构 氧化锆 
基于人工神经网络的氮化锆薄膜颜色预测模型
《真空》2007年第2期37-39,共3页牛建钢 孙维连 
建立了氮化锆薄膜制备工艺参数与薄膜色度参数之间的人工神经网络预测模型,结果表明,预测结果与实测结果吻合,最大色差在5.45以内。利用所建立的模型研究了单个参数对薄膜颜色的影响规律,及多参数间交互作用与薄膜颜色的关系。并且利用...
关键词：氮化锆薄膜 颜色 人工神经网络 预测 
采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜被引量：7
《材料热处理学报》2007年第2期30-32,共3页杨钰瑛 孙维连 李新领 王会强 孙玉梅 
河北农业大学基金项目(F05010)
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和...
关键词：中频溅射 孪生对靶 氮化锆 薄膜 
氮化锆薄膜——耐热高强度电子元件材料
《无机盐工业》2006年第2期61-61,共1页陶道敏（摘译） 
氮化锆（ZrN）具有独特的物理性质，它可用于耐热、高强度电子元件材料。喷溅法是合成该种薄膜的目前仅有的方法。但该方法制得的产品尺寸大小及形状受到限制。最近，由F1本Kanagawa大学研究成功的氮化锆薄膜采用了溶胶-凝胶法合成制得...
关键词：氮化锆薄膜 电子元件 材料 强度 耐热 产品尺寸 溶胶-凝胶法 合成方法 物理性质 研究成功 
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