亚半微米

作品数：11被引量：14H指数：2
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365～193nm曝光的亚半微米多晶硅栅控制
《电子工业专用设备》2000年第4期50-56,共7页Brian Martin Graham Arthur 万力 
综述了测量越过典型有源区形貌的多晶硅栅线宽偏差 ,采用光刻模拟程序计算。采用顶层和底层抗反射涂层与否 ,对从 36 5nm曝光的 0 .40 μm到 193nm曝光的 0 .2 2 5 μm范围抗蚀剂成像中所有线宽进行了计算。
关键词：半导体 光学光刻 模拟 多晶硅 亚半微米 曝光 
亚半微米投影光刻的自动对准技术被引量：4
《电子工业专用设备》1997年第4期17-22,共6页程建瑞 
主要介绍了国外用于生产型亚半微米分步投影曝光机的几种自动对准技术。通过分析对比，指出了相位光栅自动对准技术是我所研制下一代分步曝光机最具吸引力的方案。
关键词：自动对准 光刻 分步投影曝光机 半导体器件 
亚半微米投影曝光机的逐场调焦调平技术被引量：4
《电子工业专用设备》1997年第4期23-26,共4页肖倩 陈旭南 罗先刚 
介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调焦调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细地阐述各技术原理、组成及能达到的精度，分析各种方法的优缺点和主要实用范围，为自主研制亚半...
关键词：亚半微米 投影曝光机 逐场调平 半导体器件 光刻 
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