冯有才

作品数：8被引量：20H指数：3
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供职机构：天津大学电子信息工程学院更多>>
发文主题：三氧化钨WO直流反应磁控溅射气敏磁控溅射更多>>
发文领域：自动化与计算机技术电子电信一般工业技术更多>>
发文期刊：《压电与声光》《传感技术学报》《功能材料》《微纳电子技术》更多>>
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Pt-WO3薄膜气敏传感器的气敏性能研究被引量：2
《压电与声光》2008年第6期683-685,688,共4页李昌青 胡明 尹英哲 马晋毅 冯有才 陈鹏 
国家自然科学基金资助项目(60771019)
用直流反应磁控溅射法制备了Pt-WO3气敏薄膜，进行了薄膜晶体结构和表面形貌的分析，研究了添加Pt对WO3电学和气敏特性的影响。实验证明：当Pt膜厚为4nm时，WO3薄膜对气体的敏感特性得到改善，对φ（NO2）=5×10^-6和φ（NH3）=10×10^-...
关键词：直流反应磁控溅射 添加 响应时间 灵敏度 
双层结构TiO2-WO3气敏薄膜特性的研究被引量：3
《压电与声光》2008年第5期588-590,593,共4页尹英哲 胡明 冯有才 陈鹏 刘志刚 
国家自然科学基金资助项目(60771019)
用直流反应磁控溅射法制备了TiO2—WO3双层结构的气敏薄膜，进行了薄膜微结构和化学成分分析，研究了TiO2表面层对WO3气敏特性的影响。实验证明：当TiO2膜厚为30nm时，WO3薄膜对NO2敏感特性得到改善，TiO2—WO3结构的薄膜对空气中较低...
关键词：直流反应磁控溅射 双层结构 反应速率 气敏 
两步热处理法对WO_3薄膜结构及其气敏性能的影响被引量：3
《功能材料》2008年第10期1659-1661,共3页李东海 胡明 尹英哲 冯有才 陈鹏 
国家自然科学基金资助项目(60371030;60771019)
利用对靶磁控溅射的方法,在Al2O3基片上面生长WO3薄膜,并在200、300、400、600℃的空气环境中对薄膜进行了热处理,利用AFM、SEM及XRD方法观察了薄膜的表面形貌特征,分析了薄膜的性质和微观结构。根据SEM图观察可知,薄膜在退火温度为300...
关键词：纳米颗粒 三氧化钨 薄膜 热处理 
直流反应磁控溅射法制备WO_3薄膜及其氢敏特性研究被引量：4
《传感器与微系统》2008年第3期46-48,共3页胡明 冯有才 尹英哲 陈鹏 
采用直流反应磁控溅射法,在未抛光的A l2O3基片上制备WO3薄膜,在干燥空气中经过热处理;利用SEM观察薄膜表面形貌;通过XRD测量,对薄膜的晶体结构进行分析;薄膜氢敏特性测试采用静态配气法。经过400℃热处理,当工作温度在270℃时,对体积...
关键词：磁控溅射 WO3 氢传感器 灵敏度 
三氧化钨纳米薄膜制备与气敏性能的研究被引量：3
《传感技术学报》2007年第11期2361-2363,共3页尹英哲 胡明 冯有才 陈鹏 
讨论一种对二氧化氮具有高灵敏性的WO3纳米薄膜的制备方法.当基片温度为室温,溅射混合气体(O2/Ar)的比例为1:1时,用直流反应磁控溅射法制备的薄膜,经过两步热处理(300℃/600℃),得到纳米结构WO3气敏元件.通过XRD、XPS和SEM对该薄膜的晶...
关键词：WO3纳米薄膜 灵敏度 直流反应磁控溅射 两步热处理 
磁控溅射法制备WO_3薄膜及其氢敏特性研究被引量：1
《微纳电子技术》2007年第7期102-104,共3页胡明 冯有才 尹英哲 陈鹏 
采用直流反应磁控溅射法,在未抛光的Al2O3基片上制备WO3薄膜,在干燥空气中经过热处理;利用SEM观察薄膜表面形貌;通过XRD测量,对薄膜的晶体结构进行分析;薄膜氢敏特性测试采用静态配气法。经过400℃热处理,当工作温度在270℃时,对体积分...
关键词：磁控溅射 WO3 氢敏传感器 灵敏度 
WO_3气敏薄膜的膜厚对气体响应时间的影响被引量：2
《传感器与微系统》2007年第6期12-14,共3页尹英哲 胡明 冯有才 
用简单的模型分析了薄膜气体传感器敏感材料的膜厚对气体响应时间的影响,该模型适用于分析WO3薄膜气体传感器的敏感特性。薄膜气体传感器的敏感特性依赖于气体原子在薄膜内的扩散和与气敏材料的响应;而气体原子在薄膜内的扩散是由薄膜...
关键词：WO3薄膜 响应时间 气体传感器 
直流反应磁控溅射WO_3薄膜气敏特性研究被引量：7
《传感技术学报》2007年第4期760-762,共3页尹英哲 胡明 冯有才 陈鹏 
用直流反应磁控溅射法制成纳米结构的WO3薄膜气敏传感器,通过XRD,SEM和XPS对该薄膜的晶体结构和化学成分进行分析,研究了不同基片上制备的WO3薄膜的氨敏特性与薄膜厚度、退火温度的关系.实验得到的薄膜粒径大小约30-50nm,结果表明:在未...
关键词：WO3薄膜 氨敏传感器 直流反应磁控溅射 
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