云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 孙明仁

孙明仁: 作品数：31被引量：72H指数：5; 导出分析报告; 供职机构：哈尔滨工业大学材料科学与工程学院更多>>; 发文主题：等离子体基离子注入等离子体基TI6AL4V合金磁控溅射离子注入更多>>; 发文领域：金属学及工艺一般工业技术理学机械工程更多>>; 发文期刊：《材料热处理学报》《人工晶体学报》《真空科学与技术学报》《金属学报》更多>>; 所获基金：国家教育部博士点基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金更多>>

氮/氟离子注入Ti6Al4V合金耐磨性研究被引量：4: 《真空科学与技术学报》2016年第11期1279-1285,共7页陈道明孙明仁白贵元马新欣唐光泽; 通过等离子体基离子注入(PBII)表面改性的方法,采用不同的负脉冲偏压对Ti6Al4V合金进行氮/氟离子注入,并研究了改性层的结构、硬度以及摩擦磨损性能等。利用原子力显微镜研究了改性前后的表面粗糙度变化,并用X光电子能谱分析了改性层表...; 关键词：TI6AL4V 等离子体基离子注入摩擦磨损性能

(ZrTANbTiW)N薄膜组织结构与机械性能研究(英文): 《稀有金属材料与工程》2013年第S2期41-45,共5页冯兴国唐光泽马欣新孙明仁; Combination Project of Guangdong Province and the Ministry of Education(2010B090400444);Special Funds for International Cooperation Projects in Guangdong Province(2010B050900003);Science and Technology Projects of Guangdong Province(2010A070500002); 采用多靶磁控溅射与氮等离子体基离子注入技术制备了多元(ZrTANbTiW)N薄膜,对薄膜的组织结构及硬度进行了研究。结果表明:薄膜的化学成分主要受到样品距靶距离的影响;ZrTANbTiW合金薄膜为非晶或体心立方结构,而其(ZrTANbTiW)N氮化物薄...; 关键词：多元薄膜磁控溅射离子注入结构硬度

真空退火对Ti6Al4V合金离子注氧层表面形貌和结构的影响被引量：1: 《材料热处理学报》2011年第S1期107-110,共4页李金龙孙明仁马欣新; 浙江省自然科学基金(Y4090178);宁波市自然科学基金(Y10310UA31); 采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6Al4V合金进行表面处理。注入电压选取-50 kV,注入剂量为4.5×1017 ions/cm2。氧离子注入后对注入样品进行不同温度的真空退火处理。真空退火后,样品表面形貌发生显著变化。随着退火温度增加,先后出现...; 关键词：TI6AL4V合金氧离子注入表面形貌结构

空气等离子体基注入Ti6Al4V合金摩擦学性能研究被引量：6: 《中国表面工程》2010年第2期50-55,共6页冯兴国孙明仁马欣新唐光泽; 采用空气等离子体基离子注入技术对Ti6Al4V合金进行了表面改性。注入负脉冲电压分别为10kV,30kV,50kV,注入剂量为0.6×1017ions/cm2。用X射线光电子能谱仪对注入层元素分布进行了分析,结果表明:改性层的外层为TiO2,外层与内层基体之间存...; 关键词：TI6AL4V 等离子体基注入摩擦学性能

靶功率和基体偏压对BCN薄膜成分及结构的影响被引量：1: 《中国表面工程》2009年第4期26-30,共5页徐淑艳马欣新唐光泽孙明仁; 利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮(BCN)薄膜,通过改变靶功率(70 W和210 W)和基体偏压(-50V～-400 V)得到不同成分和组织结构的薄膜。采用X射线光电子能谱仪和傅立叶红外光谱仪分析了薄膜的成分和结构。结果表明:靶功率增加使得薄...; 关键词：BCN薄膜靶功率基体偏压组织结构

磁控溅射沉积参数对硼碳氮薄膜沉积速率的影响被引量：2: 《金属热处理》2009年第7期31-33,共3页徐淑艳马欣新唐光泽孙明仁; 利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮(B-C-N)薄膜,通过改变靶功率、基体偏压、沉积温度和励磁线圈电流,在相同沉积时间内得到不同厚度的薄膜。采用纳米压入仪分析了沉积参数改变对B-C-N薄膜沉积速率的影响规律。结果表明,在低靶功率...; 关键词：硼碳氮(B-C-N)薄膜工艺参数沉积速率

成份对BCN薄膜结构和纳米力学性能的影响: 《人工晶体学报》2009年第S1期275-278,共4页徐淑艳王立海马欣新唐光泽孙明仁; 利用直流磁控溅射技术制备了三元BCN薄膜,通过在100~500 mA之间调节励磁线圈电流,获得了不同成分的BCN薄膜。分析结果表明随着励磁线圈电流的增加,薄膜中B含量由43 at%上升至53 at%,C含量由25 at%下降至15 at%,而N原子百分含量基本不随...; 关键词：BCN薄膜纳米力学性能磁控溅射

GCr15表面钽沉积及碳离子注入的摩擦性能的研究被引量：1: 《核技术》2009年第6期423-426,共4页李忠文唐光泽马欣新孙明仁; 教育部新世纪人才项目;973项目(2007CB607602)资助; GCr15钢广泛用于各类轴承制造。为提高其摩擦性能，用磁控溅射法在GCr15轴承钢试样表面沉积厚约100nm的钽膜，再进行不同注量的50keV碳离子注入。用Ф6的GCr15钢球做对磨试验，测试它们的摩擦性能，用SEM观察磨痕形貌。结果表明，处理后...; 关键词：磁控溅射沉积碳离子注入摩擦系数磨粒磨损

O_2/(O_2+Ar)比对磁控溅射La-Sr-Mn-O薄膜沉积速率的影响被引量：1: 《中国表面工程》2008年第2期11-14,共4页江少群马欣新唐光泽孙明仁王刚; 新世纪优秀人才支持计划资助; 采用直流磁控溅射技术,在不同的O2/(O2+Ar)体积比条件下于Si(100)基片上沉积La–Sr–Mn–O薄膜,结合扫描电子显微分析研究了O2/(O2+Ar)比对薄膜沉积速率的影响。结果表明:薄膜厚度均匀,O2/(O2+Ar)比是影响薄膜沉积速率的重要因素。基体...; 关键词：薄膜磁控溅射沉积速率

注入电压对Ti6A14V合金离子注氧层结构的影响: 《中国科技论文在线》2008年第4期246-249,共4页马欣新李金龙孙明仁; 高等学校博士学科点专项科研基金(20040213048); 采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6A14V合金进行表面处理。注入电压选取-30和-50kV。注入层的结构用X射线光电子能谱、小掠射角X射线衍射、Raman光谱进行表征。注入样品在注氧层中均形成了以TiO_2为主的键结构,-30kV低电压注入样品的...; 关键词：材料学结构等离子体基氧离子注入 TI6A14V合金

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